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ヒトセルトリ細胞株樹立のためにセルトリ細胞へのhTERT遺伝子導入を予定していたため、実施計画にそってウィルスベクターを作成し、まず未成熟ラット培養セルトリ細胞にhTERT遺伝子導入実験を行うも、ほとんど遺伝子導入を認めず、わずかに得られた分離細胞の培養を継続するも増殖しなかった。そのためまず前段階の実験として、もっとも効率良くセルトリ細胞への遺伝子導入が可能になる条件選定を行った。
実験はラット培養セルトリ細胞を用いて、さまざまな異なる条件のもと、pCMV-GFPプラスミドを使用して、方形波エレクトロポレーション法で遺伝子導入を行った。セルトリ細胞の細胞生存率とEGFP表出率から算定した遺伝子導入効率を測定した結果、電圧250V、波長20μmの条件において、細胞生存率は76.5 ± 3.4%、遺伝子導入率は30.6 ± 5.6%と比較的良好であった。プラスミドDNA濃度を増加すると遺伝子導入率は上昇するが、逆に細胞生存率は減少する傾向があり、プラスミドDNA濃度20μg/mlの条件において遺伝子導入効率がもっとも良好であった。さらに上記条件による方法はLipofetamine 2000とEffecteneという2種類のメジャーな陽イオン性脂質を用いた遺伝子導入法と比較しても、導入効率が有意に良好であった。
今後は上記実験の結果より得られた最適な条件下で、hTERT遺伝子導入を行っていく予定である。
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