研究課題
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ゼオライト/疎水性シリカ複合膜の成膜条件について検討し,得られた膜の二酸化炭素分離特性について評価を行った.減圧しながらディップコートすることによって二酸化炭素が選択的に透過するRHO型ゼオライト/疎水性シリカ複合膜の調製に成功した.製膜条件の最適化に取り組み,得られた複合膜の気体透過特性および水蒸気耐久性について評価した.調製した膜は水蒸気存在下においても二酸化炭素選択性を示し,約100時間安定した性能が得られた.
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