| 研究課題/領域番号 |
23H00125
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| 研究種目 |
基盤研究(A)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 審査区分 |
中区分15:素粒子、原子核、宇宙物理学およびその関連分野
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| 研究機関 | 大学共同利用機関法人高エネルギー加速器研究機構 |
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研究代表者 |
片山 領 大学共同利用機関法人高エネルギー加速器研究機構, 加速器研究施設, 助教 (60806959)
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| 研究分担者 |
不破 康裕 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構, 原子力科学研究部門 J－PARCセンター, 研究職 (00817356)
久保 毅幸 大学共同利用機関法人高エネルギー加速器研究機構, 加速器研究施設, 助教 (30712666)
佐伯 学行 大学共同利用機関法人高エネルギー加速器研究機構, 加速器研究施設, 准教授 (70282506)
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| 研究期間 (年度) |
2023-04-01 – 2026-03-31
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| 研究の概要 |
超伝導加速空洞の性能の飛躍的向上のために、2006年に理論的に予言された、加速空洞内部に超伝導薄膜と絶縁体の膜を交互に重ねるという「積層薄膜構造」を実装する成膜手法の開発を目的とする。すでに得られている成膜手法・技術に関する知見に基づき、加速空洞内部への成膜手法の確立を目指す。この技術の実現により、さらなる最大加速勾配の増大や表面抵抗の低減が可能になる。
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| 学術的意義、期待される成果 |
本研究は積層薄膜構造の実装という新技術の導入を目指すものであるが、企業との共同研究による実績に基づいた創意工夫が詳細に記され、独創的かつ良く練られた計画である。超伝導加速空洞の性能改善は、広い分野で活用されて科学的成果の創出につながるものであり、基礎物理のみならず応用分野への波及効果も大きく、学術的意義が高い。
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