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2023 年度 審査結果の所見

構造が精密に制御されたファンデルワールス界面における熱電応答

研究課題

研究課題/領域番号 23H00259
研究種目

基盤研究(A)

配分区分補助金
応募区分一般
審査区分 中区分28:ナノマイクロ科学およびその関連分野
研究機関東京都立大学

研究代表者

柳 和宏  東京都立大学, 理学研究科, 教授 (30415757)

研究分担者 平原 佳織  千葉大学, 大学院工学研究院, 教授 (40422795)
山本 貴博  東京理科大学, 理学部第一部物理学科, 教授 (30408695)
研究期間 (年度) 2023-04-01 – 2026-03-31
研究の概要

本研究は、単層カーボンナノチューブの配列制御構造やグラフェンの積層制御構造をファンデルワールス界面と捉え、それら高度に設計制御された界面構造と熱伝導、電気伝導、熱起電力の相関の解明を目指している。

学術的意義、期待される成果

材料設計と作製技術において、すでに十分な実績のあるグループにより組織されており、競争の激しい分野であるものの、材料作製における高い技術力をもとに新規性のある成果が期待できる。金をトランスデューサーとする時間領域サーモリフレクタンス法を組み合わせた電気化学測定を取り入れており、独自性がある。また、競合研究に対する優位性が明確である。

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公開日: 2023-07-04  

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