| 研究課題/領域番号 |
22H01205
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究機関 | 大阪大学 |
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研究代表者 |
羽原 英明 大阪大学, 大学院工学研究科, 准教授 (60397734)
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| 研究分担者 |
長友 英夫 大阪大学, レーザー科学研究所, 准教授 (10283813)
城崎 知至 広島大学, 先進理工系科学研究科(工), 教授 (10397680)
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| 研究期間 (年度) |
2022-04-01 – 2026-03-31
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| キーワード | 集束電子ビーム / 抵抗率勾配 |
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| 研究実績の概要 |
本事業においては集束電子ビームを形成させるため、高強度レーザーと相互作用するプラズマの特異な形状、特に低密度プラズマチャンネルの計測が鍵となっている。その目的のために検討したピコ秒の時間分解能を持たせるためのプローブ計測手法の基礎実験を行う既存レーザー装置の欠損した結晶を取り替え、レーザー装置の調整を慎重に行って交換箇所では所定のエネルギーが得られていることを確認した。しかし後段の励起レーザーのパワーが所定の値よりも低くなっていることが判明し、最終段で必要なレーザーエネルギーが得られないことがわかり、来年度以降調整を行うこととした。
それとは別に昨年度検討していた高密度プラズマ中の抵抗率勾配によって形成する自己生成磁場を用いて電子ビームを集束する手法の基礎実験として、平板ターゲットを用いて高密度プラズマ中での電子ビーム集束実証実験を行った。実験は大阪大学レーザー科学研究所で行い、プラスチックの平板ターゲット表面近傍に直径25ミクロンメートル、長さ40ミクロンメートルのニッケルワイヤを埋め込み、ターゲット表面に激光12号の３ビームを照射して爆縮プラズマと同等のスケール長を持つ長尺プラズマを生成した。そのプラズマに高強度レーザーを照射し、高速電子流の集束をニッケルイオンとターゲット裏面に設置した銅イオンからの特性X線の発光比から調べた。その結果、ニッケルが十分プラズマ化して表面方向に膨張したタイミングで中央に局在するニッケル領域を通過する電子量が増大することがわかり、高密度プラズマ中でも抵抗率勾配にて電子ビームの集束を実証することに成功した。
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| 現在までの達成度 (区分) |
現在までの達成度 (区分)
2: おおむね順調に進展している
理由
プローブ計測手法の実証は遅れているが、新しい提案である抵抗率勾配による自己生成磁場で集束電子ビームを生成する手法において、平板ターゲットを用いた高密度プラズマ中での抵抗率勾配の形成と集束電子ビーム生成を実証することに成功し、国際会議にて成果発表を行い、現在論文としてまとめて投稿中である。
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| 今後の研究の推進方策 |
抵抗率勾配による自己生成磁場で集束電子ビームを生成する手法をより推進し、球状ターゲットを用いた爆縮プラズマ中で同様の抵抗率勾配の形成と集束電子ビーム生成を実証することを目指していく。
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