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研究代表者は，炭化水素のプラズマを用いたアモルファス炭素膜の成膜プロセスにおいて，分子量の大きいラジカルやイオン(高次のラジカル・イオン)の反応も重要であることを明らかにしてきた。そこで，ベンゼンプラズマを生成し，その成膜過程を多重内部反射赤外吸収分光法を用いたその場・実時間計測により調べた。プラズマ中でフェニルラジカルが形成され，基板に吸着する際にはすでに吸着したフェニルラジカルと互いの二重結合を単結合にして吸着する反応が見られた。基板に負バイアスを印加し，イオン成分を基板に引き込むと，付加反応は見られるものの，基板上のフェニルラジカルは分解されアルカン成分に変化することも分かった。
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