| 研究課題/領域番号 |
24350053
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 研究機関 | 山形大学 |
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研究代表者 |
森 秀晴 山形大学, 大学院・理工学研究科, 教授 (00262600)
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| 研究期間 (年度) |
2012-04-01 – 2015-03-31
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| キーワード | 高分子合成 / リビング重合 / ラジカル重合 |
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| 研究概要 |
次世代S-ビニル型ポリマーの製造技術の基盤を確立するため、多様な機能が期待できる新規S-ビニルモノマー類のRAFT重合を検討した。代表的な非共役S-ビニルモノマーであるS-ビニルスルホン酸エステル類(-SO_3-)の精密ラジカル重合手法を展開させ、ポリ(ビニルスルホン酸エステル)とポリ(NP-イソプロピルアクリルアミド)とから成り、分子量、組成及び分子量分布の制御されたブロック共重合体の合成に成功した。脱保護反応により生成されるスルホン酸含有ブロック共重合体は、ポリ(N-イソプロピルアクリルアミド)のLCST以上でミセルを形成する温度応答性ブロック共重合体であり、その組成により特異的な高次構造体転移を示した。一方、架橋性モノマーであるビニルトリアルコキシシランとビニルスルホン酸エステルを利用し、そのランダム共重合、脱保護、アルコキシシラン部位の加水分解/共縮合の手順により、新規スルホン酸含有有機-無機ネットワークの構築にも成功した。
さらに、芳香環を有するS-ビニルチオエーテルのRAFT重合により新規硫黄含有ポリマーの精密合成および高屈折率材料の開拓を行った。4種類のS-ビニルスルフィド誘導体のRAFT重合を検討し、構造の規制されたポリ(フェニルビニルスルフィド)の合成を達成した。硫黄は高い原子屈折を有する元素であり、これを分子骨格に組み込むことで、高屈折率、高アッベ数を示し、凝集が起こらない光学用途に適した材料を構築することが期待できる。
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| 現在までの達成度 (区分) |
現在までの達成度 (区分)
2: おおむね順調に進展している
理由
非共役S-ビニルモノマー類であるS-ビニルスルホン酸エステル類(-SO_3-)及びS-ビニスルフィド誘導体(-S-)のラジカル重合の精密制御手法を確立すると共に、新規スルホン酸含有ブロック共重合体、有機-無機ネットワーク、新規硫黄含有ポリマーの開拓に成功した。
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| 今後の研究の推進方策 |
当初の計画通り推進する。
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| 次年度の研究費の使用計画 |
消耗品などの物品費、学会参加等の旅費、英文校正等のその他の経費の使用が予定より少なかったため直接経費次年度使用額が生じた。25年度は、この経費と合わせて主要な物品(電気化学アナライザー)を購入予定である。また、その他の消耗品や旅費は計画通り使用する予定である。
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