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かご型ホウ素錯体は、ベンゼン環を基幹としてこれまで合成されてきた。今回は、ベンゾフランを導入した錯体の合成を検討した。市販のメトキシベンゾフランを原料として、脱保護ののち、OH基のオルト位を選択的に臭素化した。OHをメトキシ保護したのちに、ブチルリチウムによるハロゲンーリチウム交換でリチオ化し、クロロギ酸エチルと縮合させ、トリアリールカルビノールを得た。アルコール部位の還元とOMe基の脱保護により、前駆体のトリヒドロキシ体を得た。これをBH3THFと反応させると、目的のベンゾフラン導入型のかご型ホウ素錯体が得られた。
この錯体は、はじめはTHF錯体として単離されるが、エーテル溶媒を加えたのち減圧下で長時間放置すると、リガンドフリー錯体が生成することがわかった。これは、かご型ホウ素錯体としては初めての現象である。この原因は、ベンゾフランの酸素原子がリガンドフリーのホウ素に配位することで、テンポラリーにリガンドが少ない状態を可能にしていると考えられる。実際、このベンゾフラン導入型かご型錯体は、通常のベンゼン基幹のものにくらべて、圧倒的に触媒活性が高いことがわかった。
また、ベンゾフランの光吸収能力に着目し、光のOn/Off系を検討しとことろ、いくつかの反応において、光On時に反応速度が上がることがわかった。これは、光応答型のルイス酸として、たいへん期待出来る結果である。
また、計算化学により、ベンゾフラン導入型錯体の物性を考察し、低いLUMOレベルと、大きな双極子モーメントを有することがわかった。このことが、特徴的な性状を生み出す原因と考えられる。
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