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2012 年度 実績報告書

触媒反応生成高エネルギー水分子ビームを用いた高品位酸化亜鉛薄膜成長技術の構築

研究課題

研究課題/領域番号 24360014
研究種目

基盤研究(B)

研究機関長岡技術科学大学

研究代表者

安井 寛治  長岡技術科学大学, 工学部, 教授 (70126481)

研究分担者 梅本 宏信  静岡大学, 工学部, 教授 (80167288)
清水 英彦  新潟大学, 自然科学系, 准教授 (00313502)
研究期間 (年度) 2012-04-01 – 2015-03-31
キーワード薄膜
研究概要

本研究課題は、Ptナノ粒子表面での水素・酸素の燃焼反応を用いた金属酸化物薄膜の堆積技術を元に、(1)次世代紫外LDや紫外LEDのための高品位ZnO結晶薄膜の成長とp型ドーピング技術の構築
(2)低抵抗ZnO系透明導電膜作製のための省エネルギーCVD技術の構築
(3)触媒反応で生成した高エネルギーH_2Oビームのエネルギー状態、構成活性種の同定と気相反応の解析を行うことを目的にしており、初年度は以下の研究成果を得た。
(1)については、装置構造の最適化を行った結果、サファイア基板上堆積膜において3μm以下の膜厚で189cm^2/Vs、8μmで207cm^2/Vsという室温で大きな電子移動度を有する結晶膜の成長に成功した。更にp型結晶膜の作製を目指して二窒化酸素(N_2O)ガスを添加したところ、微量な添加(10^<-3>Paオーダー)でn型膜であるものの電子移動度が234cm^2/Vsと更に大きくなり、窒素の微量添加がZnO膜の結晶性、電気伝導特性を向上させることを見出した。この電子移動度が234cm^2/Vsという値はサファイア基板上で成長させたあらゆる成長手法で報告されている値よりはるかに大きな値であり、本手法が高品質なZnO結晶膜の成長手法として優れていることが証明された。
(2)については、ガラス基板上へのZnO膜堆積においてスパッタバッファー層及び低温CVDバッファー層の挿入効果を調べた。結果、ガラス基板上への直接堆積膜では電子移動度が25cm^2/Vs以下であったのに対し、どちらのタイプのバッファー層挿入においても32cm^2/Vs以上の値を得ることが出来、適切な下地層の挿入で移動度が向上することを見出した。ただ配向性の優れた結晶膜の成長には500℃の基板温度が必要であった。省エネルギープロセスの確立にはより低温での成長条件の確立が必要であり、今後更に成長プロセスを最適化し低温堆積条件で50cm^2/Vs以上の電子移動度を有する結晶膜を目指す。
(3)については、研究分担者(梅本)が真空紫外レーザーを用いた一光子レーザー誘起蛍光によるH及びOラジカルの測定を行ったが、検出することは出来ず、殆ど生成されていないことが分かった。また紫外レーザー誘起蛍光を用いてOHラジカルの測定も行ったが、同じく検出されなかった。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

2: おおむね順調に進展している

理由

高品質結晶膜の作製について1年目の目標であるサファイア基板上で200cm^2/Vs以上の電子移動度、10^16cm^<-3>オーダーの残留キャリア密度の高品質エピタキシャル膜の作製は達成出来た。また微量の窒素添加によりさらに大きな電子移動度(234cm^2/Vs)を有するZnO膜の成長に成功しており、サファイア基板上でのノンドープZnO膜の高品質膜について目標を達成できている。また低抵抗透明導電膜を目指したガラス基板上での成長膜では充分な低抵抗膜は得られていないものの適切な低温バッファー層の挿入により電子移動度の向上が得られることを見出しており、バッファー層形成条件の最適化で目標を達成出来ると考えている。

今後の研究の推進方策

H25年度は研究計画調書で示した3つの目的についてそれぞれ以下の研究を行う。
1.高品位ZnO結晶膜の成長については1年目に得られた窒素微量添加による結晶性向上の結果をもとに、ZnO膜への窒素の添加条件の最適化を目指す。目標は、電子移動度250cm^2/Vs以上残留キャリア密度5×10^16cm^<-3>以下である。
併行してp型ZnO膜作製のための最適なドーピング法とポストアニール条件の構築を見出すことを目指して、様々な圧力条件下でN_2Oガスを添加、その後、真空中、酸素及び窒素ガス雰囲気中での様々なアニール実験を行うことで窒素アクセプターの活性化条件を見出す。
2.低抵抗ZnO系透明導電膜作製のための省エネルギーCVD技術の構築については、生産性の観点から低温CVDバッファー層挿入に的を絞り、現在最も電子移動度と光透過率の大きな値が得られた5nmの層厚の付近でもう少し細かく層厚を変えると共に、低温堆積後のアニール条件も最適化することを目的に実験を行う。この実験において主要備品としてあげた紫外・可視・近赤外光度分光計を必要とする。これらの実験において得られたデータについては、長年スパッタ法を用いて透明導電膜の研究を行って来た研究分担者(清水)とディスカッションを行うことで、結晶構造と電気的・光学的特性の相関に関する考察を行い、次のステップの実験にフィードバックする予定である。
3.H_2Oビームに含まれる構成活性種の同定については、レーザー誘起蛍光測定よってO,H及びOHラジカルは検出されず、生成されていないことが分かった。そこで今年度は、触媒反応容器内で生成されガス噴出ノズルから噴出されるH_2Oビームのエネルギー状態をCARS(Coherent Anti-Stokes Raman Scattering)法を用いて測定する。

次年度の研究費の使用計画

当初の計画通り実験を遂行したが、備品、消耗品等が出来るだけ低額になるよう納入業者と交渉し購入した結果1,175,057円の残が生じた。また当初の計画で2年目の予算を少なく見積もっていたため初年度の残予算を次年度に回し、現在他の研究室で測定をお願いしている透過率測定のための分光光度計の購入に充てたい。

  • 研究成果

    (15件)

すべて 2013 2012

すべて 雑誌論文 (2件) (うち査読あり 2件) 学会発表 (13件)

  • [雑誌論文] Electrical properties of zinc oxide thin films deposited using high-energy H_2O generated from a catalytic reaction on platinum nanoparticles2013

    • 著者名/発表者名
      Kanji Yasui, Naoya Yamaguchi, Eichi Nagatomi, Soichi Satomoto, Takahiro Kato
    • 雑誌名

      MRS Symposium Proceedings

      巻: (in press)

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Optical properties of ZnO thin films grown on glass substrates using catalytically generated high-temperature H_2O2012

    • 著者名/発表者名
      Eichi Nagatomi, Soichi Satomoto, Masami Tahara, Takahiro Kato, Kanji Yasui
    • 雑誌名

      Surface & Coatings Technology

      巻: 215 ページ: 148-151

    • 査読あり
  • [学会発表] Zinc Oxide Film Growth Using High-Energy H_2O Generated by a Catalytic Reaction on Pt Nanoparticles2012

    • 著者名/発表者名
      Kanji Yasui, Hitoshi Miura, Hiroshi Nishiyama
    • 学会等名
      The 19th International Display Workshops in conjunction with Asia Display 2012 (IDW/AD '12)
    • 発表場所
      京都コンベンションセンター(招待講演)
    • 年月日
      2012-12-04
  • [学会発表] Electrical properties of zinc oxide thin films deposited using high-energy H_2O generated from a catalytic reaction on platinum nanoparticles2012

    • 著者名/発表者名
      Kanji Yasui, Naoya Yamaguchi, Eichi Nagatomi, Souichi Satomoto, Takahiro Kato
    • 学会等名
      MRS Fall Meeting 2012
    • 発表場所
      Boston Convention Center, USA
    • 年月日
      2012-11-29
  • [学会発表] 触媒反応生成H_2Oを用いてガラス基板上に堆積したZnO膜へのCVD低温バッファ層による効果2012

    • 著者名/発表者名
      小柳貴寛,竹澤和樹,里本宗一,片桐裕則,神保和夫,加藤孝弘,安井寛治
    • 学会等名
      第32回表面科学学術講演会
    • 発表場所
      東北大学片平キャンパス, 仙台
    • 年月日
      2012-11-20
  • [学会発表] 触媒反応生成高エネルギーH_2Oを用いてガラス基板上に成長したZnO膜へのCVD低温バッファ層挿入効果2012

    • 著者名/発表者名
      小柳貴寛,竹澤和樹,加藤孝弘,片桐裕則,神保和夫,安井寛治
    • 学会等名
      電子情報通信学会電子部品材料研究会
    • 発表場所
      まちなかキャンパス、長岡市
    • 年月日
      2012-10-26
  • [学会発表] 触媒反応生成高エネルギーH_2Oを用いたCVD法によるZnO薄膜の堆積特性2012

    • 著者名/発表者名
      安井寛治, 三浦仁嗣, 田原将巳, 里本宗一
    • 学会等名
      電子情報通信学会電子部品材料研究会
    • 発表場所
      まちなかキャンパス、長岡市
    • 年月日
      2012-10-26
  • [学会発表] Characteristics o talytic reaction on platinum nanoparticles2012

    • 著者名/発表者名
      Kanji Yasui, Hitoshi Miura, Souichi Satomoto, Takahiro Kato
    • 学会等名
      2012 Pacific Rim Meeting on Elcctrochemical and Solid-State Science (PRiME 2012)
    • 発表場所
      Hawaii Convention Center, Honolulu, USA
    • 年月日
      2012-10-10
  • [学会発表] Optical Properties of ZnO epitaxial film on a-plane sapphire using high-energy H_2O generated on Pt-nanoparticles2012

    • 著者名/発表者名
      Eichi Nagatomi, Naoya Yamaguchi, Hitoshi Miura, Takahiro Kato, Kanji Yasui
    • 学会等名
      IUMRS-International Conference on Electronic Material(IUMRS-lCEM 2012)
    • 発表場所
      パシフィコ横浜(招待講演)
    • 年月日
      2012-09-25
  • [学会発表] 触媒反応生成H_2Oを用いて堆積したガラス基板上ZnO膜へのCVD低温バッファ層による効果2012

    • 著者名/発表者名
      小柳貴寛,竹沢和樹,片桐裕則,神保和夫,加藤孝弘,安井寛治
    • 学会等名
      2012年秋季 第73回 応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      愛媛大学、松山大学
    • 年月日
      2012-09-14
  • [学会発表] H_2-O_2触媒反応生成高エネルギーH_2Oを用いて堆積したZnO/a-Al_2O_3の電気伝導特性の解析2012

    • 著者名/発表者名
      永冨瑛智,山口直也,清水英彦,梅本宏信,加藤孝弘,安井寛治
    • 学会等名
      2012年秋季 第73回 応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      愛媛大学、松山大学
    • 年月日
      2012-09-14
  • [学会発表] 触媒反応生成高エネルギーH_2Oを用いた高品位ZnO結晶膜のエピタキシャル成長技術2012

    • 著者名/発表者名
      永富瑛智,山口直也,里本宗一,三浦仁嗣,加藤孝弘,安井寛治
    • 学会等名
      平成24年電気学会電子・情報・システム部門大会
    • 発表場所
      弘前大学文京町キャンパス
    • 年月日
      2012-09-07
  • [学会発表] 触媒反応生成高エネルギーH_2Oを用いて成長したZnO/a-Al_2O_3膜の電気伝導特性(二層モデルによる解析)2012

    • 著者名/発表者名
      永冨瑛智, 山口直也, 加藤孝弘, 梅本宏信, 安井寛治
    • 学会等名
      電子情報通信学会エレクトロニクスソサイエティ材料デバイスサマーミーティング
    • 発表場所
      機械振興会館、東京
    • 年月日
      2012-06-22
  • [学会発表] 触媒反応生成高エネルギーH_2Oを用いてガラス基板上に成長したZnO膜の特性(スパッタ法によるバッファー層挿入効果)2012

    • 著者名/発表者名
      小柳貴寛, 里本宗一, 佐藤 魁, 加藤孝弘, 片桐裕則, 神保和夫, 安井寛治
    • 学会等名
      電子情報通信学会エレクトロニクスソサイエティ材料デバイスサマーミーティング
    • 発表場所
      機械振興会館、東京
    • 年月日
      2012-06-22
  • [学会発表] Optical properties of ZnO thin films grown on glass substrates using catalytically generated high-energy H_2O2012

    • 著者名/発表者名
      Eichi Nagatomi, Souichi Satomoto, Masami Tahara, Takahiro Kato, Kanji Yasui
    • 学会等名
      39_<th> International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films (ICMCTF 2012)
    • 発表場所
      Town & Country Hotel, Convention Center, San Diego, USA
    • 年月日
      2012-04-26

URL: 

公開日: 2014-07-16  

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