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2014 年度 研究成果報告書

ホロカソード放電型スパッタ装置によるフリーカーボン含有高潤滑コーティング膜の創成

研究課題

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研究課題/領域番号 24360054
研究種目

基盤研究(B)

配分区分一部基金
応募区分一般
研究分野 生産工学・加工学
研究機関金沢大学

研究代表者

細川 晃  金沢大学, 機械工学系, 教授 (40199493)

研究分担者 古本 達明  金沢大学, 機械工学系, 准教授 (60432134)
小谷野 智広  金沢大学, 機械工学系, 助教 (20707591)
研究期間 (年度) 2012-04-01 – 2015-03-31
キーワードPVD / FAD法 / AIP法 / ドロップレット / 密着強度 / エンドミル / 切削抵抗 / 工具摩耗
研究成果の概要

“ホローカソード放電型スパッタ装置(HCD)”と同等の機能を有しながら,機能性・拡張性に富む “アーク放電収束プラズマ輸送型イオンプレーティング装置(VACS-100)”を用い,ドロップレットがほとんどない極めて平滑なコーティング膜の生成に成功した.FAD(Filtered Arc Deposition)法を成膜原理とするこの装置で生成したTiN膜は,通常のAIP法やHCD法に比べて膜硬度や密着性に優れており,この膜をコーティングしたエンドミルは,プリハードン鋼(JIS SUS420J2)の乾式側面切削において良好な耐摩耗性と切削性を示した.

自由記述の分野

精密加工学

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公開日: 2016-06-03  

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