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2014 年度 実績報告書

エレクトロマイグレーションを用いた原子移動機構による強磁性単電子帯電構造の集積化

研究課題

研究課題/領域番号 24360117
研究機関東京農工大学

研究代表者

白樫 淳一  東京農工大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (00315657)

研究期間 (年度) 2012-04-01 – 2015-03-31
キーワードマイクロ・ナノデバイス / 少数電子素子 / エレクトロマイグレーション / ナノギャップ / ナノ材料 / 単電子トランジスタ
研究実績の概要

本研究では、エレクトロマイグレーション(EM)現象を巧みに制御・利用することで、単電子トランジスタの至極簡便な作製および集積化技術の開発を行う。今回、本課題で提案する電界放射電流誘起型EM法(アクティベーション法)とは、ナノギャップ電極に対し
て高電界Fowler-Nordheimトンネル電流を誘起することでナノギャップ間での原子のEMを発現させ、原子移動に伴うナノギャップ間隔の変動を素子のコンダクタンス変化としてモニターしながら所望のデバイス特性を「その場」制御しつつ単電子トランジスタを形成する技術である。これより、“通電処理のみ”という非常に簡単な手法にて単電子トランジスタの簡易作製技法とその集積化技術の開拓を行い、単電子機能発現・制御手法の確立を目指す。
最終年度(平成26年度)では、単電子トランジスタ(SET)の更なる集積化を目指し、直列接続された複数のナノギャップに対し本手法を適用し、5素子のSETの集積化と電気的特性の同時制御について検討を行った。電子線リソグラフィーにより直列に接続されたNiナノギャップを作製した。これに対して同一電流を通電することで、各ナノギャップの一括した電気的特性制御を行った。設定電流を100nA、300nA、500nAと順次増加させながら本手法を適用し、その都度、5個のナノギャップの電流-電圧特性を測定した。これより、全てのナノギャップが室温において単電子帯電効果を発現していることが確認できた。以上から、直列に接続した複数個のナノギャップに対して本手法を適用することで、各ナノギャップの電気的特性を同時に制御しながら、アイランド構造を有するナノギャップ(SET構造)が同時に作製されたものと考えられる。本手法により、単電子トランジスタの簡易な作製および集積化技術の可能性が示された。

現在までの達成度 (段落)

26年度が最終年度であるため、記入しない。

今後の研究の推進方策

26年度が最終年度であるため、記入しない。

次年度使用額が生じた理由

26年度が最終年度であるため、記入しない。

次年度使用額の使用計画

26年度が最終年度であるため、記入しない。

  • 研究成果

    (10件)

すべて 2015 2014 その他

すべて 雑誌論文 (5件) (うち査読あり 5件) 学会発表 (4件) (うち招待講演 1件) 備考 (1件)

  • [雑誌論文] Ultrafast Feedback-Controlled Electromigration Using a Field-Programmable Gate Array2015

    • 著者名/発表者名
      Y. Kanamaru, M. Ando and J. Shirakashi
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol. B

      巻: 33 ページ: 02B106

    • DOI

      http://dx.doi.org/10.1116/1.4903929

    • 査読あり
  • [雑誌論文] A Fully Customized Hardware System for Ultra-Fast Feedback-Controlled Electromigration Using FPGA2014

    • 著者名/発表者名
      Y. Kanamaru, M. Ando, R. Suda and J. Shirakashi
    • 雑誌名

      Conference Proceedings, 2014 14th IEEE International Conference on Nanotechnology (IEEE-NANO)

      巻: INSPEC Accession #: 14778995 ページ: 719-722

    • DOI

      10.1109/NANO.2014.6968058

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Resistive Switching Effects in Electromigrated Ni Nanogaps2014

    • 著者名/発表者名
      K. Takikawa, R. Suda, M. Ito, T. Toyonaka and J. Shirakashi
    • 雑誌名

      Conference Proceedings, 2014 14th IEEE International Conference on Nanotechnology (IEEE-NANO)

      巻: INSPEC Accession #: 14778966 ページ: 715-718

    • DOI

      10.1109/NANO.2014.6968014

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Low-Temperature Deposition of Thin Si, Ge, and SiGe Films Using Reducing Activity of Ballistic Hot Electrons2014

    • 著者名/発表者名
      N. Koshida, R. Suda, M. Yagi, A. Kojima, R. Mentek, B. Gelloz, N. Mori and J. Shirakashi
    • 雑誌名

      ECS Trans.

      巻: 64 ページ: 405-410

    • DOI

      10.1149/06406.0405ecst

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Ballistic Hot Electron Effects in Nanosilicon Dots and Their Photonic Applications2014

    • 著者名/発表者名
      N. Koshida, N. Ikegami, A. Kojima, R. Mentek, R. Suda, M. Yagi, J. Shirakashi, B. Gelloz and N. Mori
    • 雑誌名

      ECS Trans.

      巻: 61 ページ: 47-54

    • DOI

      10.1149/06105.0047ecst

    • 査読あり
  • [学会発表] Structural Tuning of Nanogaps Using Field-Emission-Induced Electromigration with Bipolar Biasing2014

    • 著者名/発表者名
      M. Yagi, M. Ito and J. Shirakashi
    • 学会等名
      4th International Conference on Manipulation, Manu-facturing and Measurement on the Nanoscale (3M-NANO 2014)
    • 発表場所
      Taipei, Taiwan.
    • 年月日
      2014-10-27 – 2014-10-31
    • 招待講演
  • [学会発表] Simultaneous Fabrication of Nanogaps Using Field-Emission-Induced Electromigration2014

    • 著者名/発表者名
      M. Ito, M. Yagi, K. Morihara and J. Shirakashi
    • 学会等名
      4th International Conference on Manipulation, Manu-facturing and Measurement on the Nanoscale (3M-NANO 2014)
    • 発表場所
      Taipei, Taiwan.
    • 年月日
      2014-10-27 – 2014-10-31
  • [学会発表] A Fully Customized Hardware System for Ultra-Fast Feedback-Controlled Electromigration Using FPGA2014

    • 著者名/発表者名
      Y. Kanamaru, M. Ando, R. Suda and J. Shirakashi
    • 学会等名
      IEEE NANO 2014 (2014 IEEE International Conference on Nanotechnology)
    • 発表場所
      Toronto, ON, Canada.
    • 年月日
      2014-08-18 – 2014-08-21
  • [学会発表] Resistive Switching Effects in Electromigrated Ni Nanogaps2014

    • 著者名/発表者名
      K. Takikawa, R. Suda, M. Ito, T. Toyonaka and J. Shirakashi
    • 学会等名
      IEEE NANO 2014 (2014 IEEE International Conference on Nanotechnology)
    • 発表場所
      Toronto, ON, Canada.
    • 年月日
      2014-08-18 – 2014-08-21
  • [備考] 白樫研究室ホームページ

    • URL

      http://www.tuat.ac.jp/~nanotech/index.htm

URL: 

公開日: 2016-06-01  

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