細孔壁原子ラフネスの合理的同定法開発と統合的ナノ空間評価への展開

2014 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 24360318
• 研究種目: 基盤研究(B)
• 配分区分: 一部基金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 化工物性・移動操作・単位操作
• 研究機関: 京都大学
• 研究代表者: 宮原 稔 京都大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (60200200)
• 研究分担者: 田中 秀樹 京都大学, 工学研究科, 講師 (80376368)
• 研究期間 (年度): 2012-04-01 – 2015-03-31
• キーワード: 吸着 / 細孔壁原子密度分布 / 分子シミュレーション / 極低温He物理吸着TPD

研究成果の概要

本研究では極低温He物理吸着TPD測定と分子シミュレーションを援用することで，合理的なラフネス同定法を構築し，表面と空間という，統合的なナノ空間の特性評価手法を開発することを目的とした。本TPD装置は，極低温環境（～4 K）とすることで，吸着力の弱いHe原子に対しても，その物理吸着エネルギーが熱運動エネルギーを凌駕する状態を創出し，昇温脱離法の適用を可能としたものである。当該研究ではMCM-41やSBA-15のAtomistic modelの構築とその吸着エネルギー分布の評価を行い，極低温He物理吸着TPD測定結果との比較検討を行うことで，合理的なラフネス同定法構築についての指針を得た。

自由記述の分野

吸着工学