| 研究課題/領域番号 |
24510162
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
ナノ材料・ナノバイオサイエンス
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| 研究機関 | 独立行政法人産業技術総合研究所 |
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研究代表者 |
阪東 恭子 独立行政法人産業技術総合研究所, ナノシステム研究部門, 主任研究員 (50357828)
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| 研究分担者 |
小林 英一 公益財団法人佐賀県地域産業支援センター九州シンクロトロン光研究センター, ビームライングループ, 研究員 (80319376)
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| 研究期間 (年度) |
2012-04-01 – 2015-03-31
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| キーワード | in situ 構造解析 / XAFS および XRD同時測定 / 無機発光材料 / アルミナ自立膜 / Tbドープ / electroluminescence / photoluminescence |
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| 研究成果の概要 |
本研究は、ガス流通下加熱処理条件下XAFSとXRDの同時測定を可能にする新規in situ XAFSおよびXRD同時測定法の開発を目的として実施した。さらに開発された手法を新規無機EL材料であるTbドープアルミナ自立膜に適用し、EL活性点構造発現過程の解明を試みた。新規に開発したin situ XAFSおよびXRD同時測定用セルを用いて、不活性ガス流通下で700℃まで加熱しながら、発光中心であるTb LIII-edge XAFSとアルミナのXRDの同時測定に成功した。その結果、Tbはアルミナの結晶内に取り込まれているのではなく、アルミナ粒子表面上に孤立して高分散していることが明らかにできた。
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| 自由記述の分野 |
放射光利用したナノ物質構造解析
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