| 研究成果の概要 |
ハロゲン基を立体保護基として持つ3つのジアゾ化合物を合成し、その光分解によって発生した三重項ジアリールカルベンを特性化した。オルト位に4つのヨード基を有するジフェニルカルベンは、2MTHF中200 Kまで安定に存在し、室温脱気ベンゼン中では、半減期18.4分の超持続性三重項カルベンであった。オルト位に2つのヨード基と1つのトリフルオロメチル基を有するジフェニルカルベンは、100 Kまで存在し、ベンゼン中半減期は40 msであった。トリアゾール環の1,4-位に2,6-ジフルオロフェニル基を有する(トリアゾール-5-イル)(フェニル)カルベンは220 Kまで観測され、超持続性であると推測された。
|
