| 研究実績の概要 |
昨年度、２つのドコシルオキシ基を導入した疎水性のトリチル保護基（HTrt）をシステインのチオール基の保護基としてグラッシィペプトリド類の南半球に相当するヘキサペプチドの合成を検討した際に浮き彫りになった２つの問題点について精査した。問題点の１つはシステインのチオール基導入収率の低い再現性で、もう一つはS-HTrt基存在下でのアリルエステルの脱保護である。まず１つ目の問題は、保護化剤と溶媒かつ反応剤となるトリフルオロ酢酸の当量と後処理法を変えて種々検討を行ったが再現性が見られず、高収率で対応するHTrt保護体を得る条件を見い出すには至らなかった。今後保護化剤の改変などが必要であることが明らかとなった。もう一つの問題に関しては、Fmoc-Cys(HTrt)-OAllを用いて検討を行ったところ、一般的なアリルエステルの脱保護条件であるジクロロメタン中、フェニルシラン存在下、触媒量のテトラキストリフェニルホスフィンパラジウムとの処理によって収率よくアリルエステルが除去されることを確認した。
一方、グラッシィペプトリド類の北半球に相当するデプシペプチドの合成には温和な条件下で除去可能な疎水性保護基が必要であることから疎水性のフェナシル基を着想し、その保護化剤の合成を検討した。3,5-ジヒドロキシアセトフェノンをブロモドコサンでアルキル化して3.5-ビス（ドコシルオキシ）アセトフェノンを得、これの臭素化によって目的とするファナシルブロミドへの変換を試みた。残念ながら、様々な臭素化法を検討したが、目的物の他、ベンゼン環が臭素化された化合物が相当量副生した。また、これらは極性が同程度でカラムクロマトグフラフィーによる分離は大量の吸着剤と溶媒および労力を要することから保護化剤への利用を断念せざるを得なかった。
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