研究課題
基盤研究(C)
遷移金属炭化物、ホウ化物の代表としてZrCの分子線エピタキシーを調べた。ZrC(111)上には予想されるより著しく低い温度(400℃)で層状成長することが分かった。酸化物基板、Si基板ではエピタキシーするが層状成長しなかった。酸化物基板の場合温度を上げると下地の酸化物と反応してしまう。Si基板の場合はSiが成長表面に拡散してきてZrCの層状成長を阻害することが分かった。
表面物理実験