| 研究課題/領域番号 |
24560037
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
薄膜・表面界面物性
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| 研究機関 | 独立行政法人産業技術総合研究所 |
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研究代表者 |
中村 挙子 独立行政法人産業技術総合研究所, 先進製造プロセス研究部門, 主任研究員 (70357656)
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| 研究分担者 |
長谷部 光泉 東海大学, 医学部, 教授 (20306799)
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| 連携研究者 |
大花 継頼 独立行政法人産業技術総合研究所, 先進製造プロセス研究部門, グループ長 (10356660)
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| 研究期間 (年度) |
2012-04-01 – 2015-03-31
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| キーワード | ナノダイヤモンド粒子 / 表面化学修飾 / ガドリニウム / 核磁気共鳴画像 / 造影剤 |
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| 研究成果の概要 |
表面化学修飾法を用いた核磁気共鳴画像（MRI）用ガドリニウム錯体担持ナノダイヤモンド粒子の作製法を開発した。ナノダイヤモンド粒子表面上に存在する水酸基を利用してキレート機能を有する有機分子を固定し、さらに造影能を有するガドリニウムイオンを錯形成させることにより、簡便な操作で作製が可能となった。また、MRI撮像結果により、ガドリニウム錯体担持ナノダイヤモンド粒子が高信号を示すことが明らかとなり、新規MRI造影剤開発への更なる検討が期待される。
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| 自由記述の分野 |
炭素材料化学
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