研究課題
基盤研究(C)
本研究では公転を伴う自公転円板上に形成される境界層流れを明らかにし,その自公転円板上の境界層流れのパターンを体系化し,境界層遷移を制御することを目的としている。自公転円板上の境界層流れの油膜法による可視化,スモークワイヤ法による動的可視化および熱線流速計による速度場計測により,円板全体が層流域となる低レイノルズ数の流れ場から円板外周部まで乱流域となる高レイノルズ数における流れ場まで,円板直径,公転半径,公転速度および公転運動の方向などの影響を明らかにした。
流体工学