• 研究課題をさがす
  • 研究者をさがす
  • KAKENの使い方
  1. 課題ページに戻る

2013 年度 実施状況報告書

オール窒化物半導体による白色光源の実現に向けた赤色発光層の開発

研究課題

研究課題/領域番号 24560362
研究機関東北大学

研究代表者

松岡 隆志  東北大学, 金属材料研究所, 教授 (40393730)

研究分担者 花田 貴  東北大学, 金属材料研究所, 助教 (80211481)
キーワード窒化物半導体 / InGaN / MOVPE
研究概要

今年度は、白色発光ダイオードを構成するための青色から橙色領域の発光波長を有するInGaN/GaN量子井戸構造を作製した。これまでの研究で窒素極性(000-1)面を用いることによりIn取り込み効率が向上し、高InNモル分率を有するInGaNが得られることが分かったが、準安定な結晶層である閃亜鉛鉱構造の混在やヒロック形成により、結晶品質が劣化する傾向がしばしば見られた。そこで多重量子井戸を作製する際の成長条件を検討し結晶品質の改善を試みた。様々な条件で結晶成長を試みたところ、ヒロック形成と準安定層の混在には相関があり、非平衡な雰囲気で結晶成長を行うと表面荒れが生じ、結晶層が不安定になることが分かった。成長温度を上げ、V/III比を下げるなど、熱平衡に近い条件にすることで結晶層純度が高く、表面平坦性を原子層レベルまで向上することができた。X線回折から1次のサテライトを有する多重量子井戸からの回折が得られ、界面急峻性が向上していることを確認した。
これらの結果を元に発光ダイオードの試作を行った。準安定層やヒロックの形成を抑制するために、InGaN/GaN多重量子井戸を成長する際の成長雰囲気を変調させた。高InNモル分率を達成するためには非平衡な雰囲気にする必要があるため、InGaN成長時にはV/III比を高くすることでIn取り込みを向上させ、GaN成長時にはV/III比を下げ水素を導入することで表面マイグレーションを促進させた。その結果、最大でInNモル分率34%を有しつつ、準安定層やヒロックのない多重量子井戸を得ることに成功した。成長温度を変化することでInNモル分率を変化させることができ、発光波長(発光色)として445 nm(青色)から600 nm(橙色)の発光ダイオードの試作に成功した。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

2: おおむね順調に進展している

理由

オール窒化物半導体による白色光源の実現に向けて必要な要素技術は青色、緑色、赤色発光層である。様々な発光層を得るためには広い組成域で高品質なInGaN混晶膜を得る必要がある。本申請課題では、白色高原を実現するための要素として、窒素極性(000-1)面の導入と高温・高圧成長を提案している。平成25年度は、成長条件を検討することにより窒素極性(000-1)面GaN上に界面急峻性に優れた多重量子井戸の作製に成功した。また、平成24年度に確立したデバイス作製技術を用いて発光ダイオードを作製し、電流注入により青色から橙色の発光を得た。以上のことから白色光源を実現するための基本的な作製技術は既に確立できたと考えている。平成26年度は、これらの技術を組み合わせ多色発光による白色LEDの作製を試みるが、今年度得られた結果を元に遂行可能な段階まで到達していると考えている。

今後の研究の推進方策

まず、緑色から赤色の発光を有する試料の内部量子効率向上を試みる。効率向上のためには、非輻射再結合の主な原因となる貫通転位密度の低減が必須である。貫通転位密度の低減に向けてSiO2マスクを用いた横方向成長を採用し、貫通転位密度を1桁低減する。内部量子効率をフォトルミネッセンス測定により評価し、貫通転位密度と内部量子効率の関係を明らかにする。
次に青色発光素子の下部に黄色もしくは緑色と赤色の発光層を埋め込んだ構造を作製し、電流注入によって青色を発光させ、その光で緑と赤色発光用結晶層を励起し、緑と赤色発光を得る。

次年度の研究費の使用計画

年度末にMOCVD装置のソフトウェア改修を委託していたが、予定していた作業日程が短縮されたため、作業費が見積額より安価となり余剰金が生じた。
余剰金は結晶成長に必要な水素ガスの購入に充てる。

  • 研究成果

    (19件)

すべて 2014 2013

すべて 雑誌論文 (5件) (うち査読あり 5件) 学会発表 (14件) (うち招待講演 3件)

  • [雑誌論文] Effect of c-plane Sapphire Substrate Miscut-angle on Indium Content of MOVPE-grown N-polar InGaN2014

    • 著者名/発表者名
      K. Shojiki, J.H. Choi, H. Shindo, T. Kimura, T. Tanikawa, T. Hanada, R. Katayama, and T. Matsuoka
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 53 ページ: 05FL05_1-4

    • DOI

      10.7567/JJAP.53.05FL07

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Enhancement of Surface Migration by Mg doping in the Metalorganic Vapor Phase Epitaxy of (000-1) GaN/Sapphire2014

    • 著者名/発表者名
      T. Tanikawa, K. Shojiki, T. Kimura, S. Kuboya, T. Hanada, R. Katayama, and T. Matsuoka
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 53 ページ: 05FL07_1-5

    • DOI

      10.7567/JJAP.53.05FL05

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Effect of Sapphire Nitridation and Group-III Source Flow Rate Ratio on In-Incorporation Into InGaN Grown by Metalorganic Vapor Phase Epitaxy2014

    • 著者名/発表者名
      J. H. Choi, K. Shojiki, T. Tanikawa, T. Hanada, R. Katayama, and T. Matsuoka
    • 雑誌名

      J. Nanoscience and Nanotechnology

      巻: 14 ページ: 6112-6115

    • DOI

      10.1166/jnn.2014.8306

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Investigation of Indium Iincorporation into InGaN by Nitridation of Sapphire Substrate in MOVPE2013

    • 著者名/発表者名
      J. H. Choi, K. Shojiki, T. Tanikawa, T. Hanada, R. Katayama, and T. Matsuoka
    • 雑誌名

      phys. stat. sol. (c)

      巻: 10 ページ: 417-420

    • DOI

      10.1002/pssc.201200667

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Optical Properties of InN films Grown by Pressurized-reactor Metalorganic Vapor Phase Epitaxy2013

    • 著者名/発表者名
      Y. T. Zhang, T. Kimura, K. Prasertusk, T. Iwabuchi, S. Kumar, Y. H. Liu, R. Katayama, and T. Matsuoka
    • 雑誌名

      Thin Solid Films

      巻: 536 ページ: 152-155

    • DOI

      10.1016/j.tsf.2013.04.004

    • 査読あり
  • [学会発表] Recent Trends in Wide-Gap LEDs and LDs from Epitaxial Growth to Devices Structures2014

    • 著者名/発表者名
      T. Matsuoka
    • 学会等名
      Thailand National Science and Technology Development Agency (NSTDA)
    • 発表場所
      Bangok, Thailand
    • 年月日
      20140311-20140311
    • 招待講演
  • [学会発表] Effect of indium surfactant on MOVPE growth of N-polar GaN2014

    • 著者名/発表者名
      T. Aisaka, T. Tanikawa, T. Kimura, K. Shojiki, T. Iwabuchi, T. Hanada, R. Katayama, and T. Matsuoka
    • 学会等名
      8th Intern. Symp. Medical, Bio- and Nano-Electronics
    • 発表場所
      Sendai, Japan
    • 年月日
      20140305-20140307
  • [学会発表] Crystallographic Polarity Dependence of Surface Morphology Evolution during MOVPE Growth of GaN/Sapphire2014

    • 著者名/発表者名
      N. Yoshinogawa, T. Iwabuchi, K. Shojiki, T. Kimura, T. Tanikawa, R. Katayama, and T. Matsuoka
    • 学会等名
      8th Intern. Symp. Medical, Bio- and Nano-Electronics
    • 発表場所
      Sendai, Japan
    • 年月日
      20140305-20140307
  • [学会発表] Investigation and Suppression of Metastable-phase Inclusion in MOVPE-grown -c-plane InGaN/GaN Multiple Quantum Wells2013

    • 著者名/発表者名
      K. Shojiki, J. H. Choi, T. Iwabuchi1, N. Usami, T. Tanikawa, S. Kuboya, T. Hanada, R. Katayama, and T. Matsuoka
    • 学会等名
      KINKEN-WAKATE 2013 10th Materials Science School for Young Scientists
    • 発表場所
      Sendai Japan
    • 年月日
      20131121-20131122
  • [学会発表] Overview of Nitride Semiconductors2013

    • 著者名/発表者名
      T. Matsuoka
    • 学会等名
      13 International Symposium on Optomechatronic Technologies
    • 発表場所
      Jeju, Korea
    • 年月日
      20131028-20131030
    • 招待講演
  • [学会発表] Effect of c-plane Sapphire Substrate Miscut-angle on Indium Content of MOVPE-grown N-polar InGaN2013

    • 著者名/発表者名
      K. Shojiki, J. H. Choi, H. Shindo, T. Kimura, T. Tanikawa, T. Hanada, R. Katayama, and T. Matsuoka
    • 学会等名
      2013 JSAP-MRS Joint Symposia
    • 発表場所
      Kyoto, Japan
    • 年月日
      20130916-20130920
  • [学会発表] Improvement of Surface Morphology of N-polar GaN by Introducing Indium Surfactant during MOVPE Growth2013

    • 著者名/発表者名
      T. Aisaka, T. Tanikawa, T. Kimura, K. Shojiki, T. Hanada, R. Katayama, and T. Matsuoka
    • 学会等名
      2013 JSAP-MRS Joint Symposia
    • 発表場所
      Kyoto, Japan
    • 年月日
      20130916-20130920
  • [学会発表] In situ X-ray Diffraction during Reactive Deposition Epitaxy of FeSi2 on Si(001)2013

    • 著者名/発表者名
      T. Hanada, H. Tajiri, O. Sakata, and T. Matsuoka
    • 学会等名
      2013 JSAP-MRS Joint Symposia
    • 発表場所
      Kyoto, Japan
    • 年月日
      20130916-20130920
  • [学会発表] Effect of Reactor Pressure on Rate-determining Process in InN Growth2013

    • 著者名/発表者名
      T. Kimura, K. Prasertsuk, Y. Zhang, T. Iwabuchi, Y. Liu, R. Katayama, and T. Matsuoka
    • 学会等名
      2013 JSAP-MRS Joint Symposia
    • 発表場所
      Kyoto, Japan
    • 年月日
      20130916-20130920
  • [学会発表] Evaluation and Solution of Metastable-Phase Inclusion in MOVPE-grown -c-plane InGaN/GaN Multiple Quantum Wells2013

    • 著者名/発表者名
      K. Shojiki, J. H. Choi, T. Iwabuchi, N. Usami, T. Tanikawa, S. Kuboya, T. Hanada, R. Katayama, T. Matsuoka
    • 学会等名
      10th International Conference on Nitride Semiconductors(ICNS-10)
    • 発表場所
      Washington DC, USA
    • 年月日
      20130825-20130830
  • [学会発表] Influence of Mg-Doping on the Surface Morphology of (000-1) GaN/Sapphire Grown by Metalorganic Vapor Phase Epitaxy2013

    • 著者名/発表者名
      T. Tanikawa, T. Aisaka, S. Kuboya, T. Hanada, R. Katayama, and T. Matsuoka
    • 学会等名
      10th International Conference on Nitride Semiconductors(ICNS-10)
    • 発表場所
      Washington DC, USA
    • 年月日
      20130825-20130830
  • [学会発表] Lattice-matching Substrates to InGaAlN and its Epitaxial Growth2013

    • 著者名/発表者名
      T. Matsuoka, T. Tanikawa, T. Iwabuchi, and K. Shojiki
    • 学会等名
      2nd International Symposium on Single Crystals and Wafers
    • 発表場所
      Wonju, Korea
    • 年月日
      20130625-20130628
    • 招待講演
  • [学会発表] Improvement of Surface Morphology in (000-1) GaN/Sapphire Grown by MOVPE with Indium Surfactant2013

    • 著者名/発表者名
      T. Aisaka, T. Tanikawa, T. Kimura, T. Iwabuchi, K. Shojiki, R. Katayama, T. Hanada, and T. Matsuoka
    • 学会等名
      Intern. Symp. Comp. Semcond. (ISCS2013)
    • 発表場所
      Kobe, Japan
    • 年月日
      20130519-20130523
  • [学会発表] Improvement of surface morphology in (000-1) GaN/Sapphire grown by MOVPE with indium surfactant2013

    • 著者名/発表者名
      T. Tanikawa, T. Aisaka, T. Kimura, T. Iwabuchi, K. Shojiki, R. Katayama, T. Hanada, and T. Matsuoka
    • 学会等名
      Conference on LED and its industrial application '13 (LEDIA '13)
    • 発表場所
      Yokohama, Japan
    • 年月日
      20130423-20130425

URL: 

公開日: 2015-05-28  

サービス概要 検索マニュアル よくある質問 お知らせ 利用規程 科研費による研究の帰属

Powered by NII kakenhi