• 研究課題をさがす
  • 研究者をさがす
  • KAKENの使い方
  1. 課題ページに戻る

2013 年度 実施状況報告書

コロナ帯電を用いた汎用ガラスへのホログラム記録技術の確立とその応用

研究課題

研究課題/領域番号 24560811
研究機関北見工業大学

研究代表者

原田 建治  北見工業大学, 工学部, 准教授 (30312820)

研究分担者 酒井 大輔  北見工業大学, 工学部, 研究員 (10534232)
キーワードコロナ放電 / ガラス / ホログラム
研究概要

本研究では、コロナ帯電を用いた可視域レーザーでの汎用ガラス(ソーダライムガラスを想定)へのホログラム記録技術の確立とその応用を目的とし、ガラスホログラムの高精度化・高効率化および環境にやさしいガラスホログラムの作製技術の確立を目指している。昨年までの研究において、コロナ帯電の条件によってガラス表面に凹凸が形成されることや、形成メカニズムについて解明した。
今年度は、さらにコロナ帯電の帯電時間や加熱温度さらには環状シロキサンの供給量を変化させることによって、ガラスの凹凸量を増大させる方法を検討した。コロナ帯電中に環状シロキサンの供給がストップすると、凹凸量の増加が見込めないことがわかり、十分な環状シロキサンを供給できる環境で実験をおこなった。その結果、従来では最大の100nm程度であった凹凸を250nmまで増大することに成功した。これは、今年の計画の目標値であった200nmを上回る。しかしながら目標としていた回折効率には届かなかった。レーザー光で観察した解説パターンにはノイズが乗っており、ガラス表面において拡散していることが伺えた。よって、凹凸は増大するが、凹凸を形成する粒子が従来よりサイズが大きくなり、それに起因して拡散していることが予想される。
今後はさらに評価を進めることにより、ガラスホログラムの高効率化、および今回の実験で明らかになったノイズの除去方法について研究を進めていく予定である。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

2: おおむね順調に進展している

理由

計画通り、ガラスへの表面凹凸形成の高効率化に重点を置き研究を進め、250nmの凹凸形成に成功した。

今後の研究の推進方策

今年度は、昨年度の実験結果を踏まえ、引き続き高精度・高回折効率のガラスホログラムの作製に重点を置き研究を進めていく。特に問題となったノイズの除去方法について、重点的に取り組む。

  • 研究成果

    (4件)

すべて 2013 その他

すべて 雑誌論文 (2件) (うち査読あり 2件) 学会発表 (2件) (うち招待講演 1件)

  • [雑誌論文] New Method of Increasing Diffraction Efficiency of Grating Transferred in Glass Substrate by Corona-Charging Treatment2013

    • 著者名/発表者名
      D. Sakai, T. Fukuda, and K. Harada
    • 雑誌名

      Optical Review

      巻: 20 ページ: 504-507

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Chemical Etching Using KOH Aqueous Solution for Corona-Charge Micropatterning of Soda-Lime Glass2013

    • 著者名/発表者名
      D. Sakai, K. Harada, D. Barada, and T. Fukuda
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 52 ページ: 036701-1-4

    • 査読あり
  • [学会発表] Visualizing Method of Index Modulated Hologram in Glass Using Corona Discharge2013

    • 著者名/発表者名
      D. Sakai, K. Harada, and J. Nishii
    • 学会等名
      International Workshop on Holography and Related Technologies 2013
    • 発表場所
      Kitami Institute of Technology, Japan
    • 年月日
      20131015-20131017
    • 招待講演
  • [学会発表] Selective Chemical Vapor Deposition for Electrically Pretreated Glass

    • 著者名/発表者名
      D. Sakai, H. Ikeda, K. Harada, Y. Hara, K. Yamamoto, Y. Yamamoto, and J.Nishii
    • 学会等名
      The Tenth Japan-Finland Joint Symposium on Optics in Engineering
    • 発表場所
      Utsunomitya University, Japan

URL: 

公開日: 2015-05-28  

サービス概要 検索マニュアル よくある質問 お知らせ 利用規程 科研費による研究の帰属

Powered by NII kakenhi