研究課題
基盤研究(C)
本研究では、コロナ帯電を用いた可視域レーザーでの汎用ガラス(ソーダライムガラスを想定)へのホログラム記録技術の確立とその応用を目的とし、ガラスホログラムの高精度化・高効率化および環境にやさしいガラスホログラムの作製技術の確立を目指した。4年間の研究を通して、コロナ帯電温度および帯電時間の最適化を確立し、最終目標数値である260nmの凹凸を有するガラスホログラムの作製に成功した。
情報フォトニクス