研究課題
基盤研究(C)
ナノレベルの極薄ハイドロキシアパタイト(HA)被膜をチタン表面に簡便に形成できる新しい表面処理プロセスを開発した。この技術の確立を図るため、処理条件の最適化をおこない、さらにその形成被膜の生体適合を評価した。最適条件下で形成した被膜は、HA含む高密着性酸化被膜であり、その膜厚は約300 nmであった。さらに、細胞試験により、この被膜を有するチタンは十分な生体安全性を持ち、さらに骨芽細胞による骨形成を促進できることが明らかとなった。
金属表面改質