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１．新規薄膜アクチュエータ用磁性材料の検討；溶質原子を過飽和に固溶させられるイオンプレーティング法によって投入された過剰エネルギーにより過飽和固溶体合金を作製することができた。イオンプレーティング法を用いることで，従来の方法では作製困難な新規薄膜アクチュエータ材料創製の可能性を見出した。
２．薄膜アクチュエータ用磁性材料の特性制御；薄膜特性に大きく影響を及ぼす、薄膜の内部応力に及ぼすイオン衝撃の影響についてイオン衝撃パラメータPiを用いて評価した。ピーニング効果に基づくイオン衝撃パラメータPiを用いて真応力を制御し，成膜時に発生する薄膜の内部応力を制御出来るのではないかと考えられる
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