2014 年度研究成果報告書

Ｙゼオライト細孔内部触媒活性制御のための侵入型減圧熱ＣＶＤプロセスの開発

研究課題

研究課題/領域番号	24560897
研究種目	基盤研究(C)
配分区分	基金
応募区分	一般
研究分野	材料加工・処理
研究機関	秋田工業高等専門学校
研究代表者	佐藤恒之秋田工業高等専門学校, その他部局等, 教授 (80170760)
研究期間 (年度)	2012-04-01 – 2015-03-31
キーワード	ゼオライト / ＣＶＤ / 長寿命化 / 細孔径制御
研究成果の概要	ゼオライト触媒の長寿命化をめざし、成膜前駆体をゼオライトの細孔内へ侵入させて、成膜することの可能な侵入型減圧熱CVDプロセスの開発を目標とし、2012年から3年間で、CVD時に真空度を連続的に変化させることのできるCVD装置を作製するとともに、その装置による基礎的な成膜実験を行った。1700Pa以下、1000K程度の条件で良質な膜が得られた。今後メカニズム解明とプロセスの最適化が必要である。
自由記述の分野	化学工学