2014 年度研究成果報告書

シリカネットワーク構造制御による超高透過性を有する二酸化炭素分離膜の創製

研究課題

研究課題/領域番号	24560924
研究種目	基盤研究(C)
配分区分	基金
応募区分	一般
研究分野	化工物性・移動操作・単位操作
研究機関	広島大学
研究代表者	金指正言広島大学, 工学(系)研究科(研究院), 助教 (10467764)
連携研究者	郡司天博東京理科大学, 理工学部工業化学科, 教授 (20256663)
研究期間 (年度)	2012-04-01 – 2015-03-31
キーワード	ゾル－ゲル法 / ガス分離 / アモルファスシリカ / 細孔径制御 / 分子ふるい
研究成果の概要	本研究では，従来のシリカ膜では分離が困難であった二酸化炭素分離を目的とした，新規二酸化炭素分離膜を創製するために，シリカネットワークサイズを0.38 nm程度に精密制御した。ネットワークサイズの制御は，Si原子間の有機官能基によるスペーサー法，種々の員環数を有する環状シロキサンをユニットとしてもつ環状アルコキシドを出発原料として制御した。いずれの手法においてもネットワーク制御が可能で，Si4員環構造を有するPOSS膜はCO2/CH4高選択透過性を示した。
自由記述の分野	化学工学，膜分離工学