炭化水素ガスの反応性熱ＣＶＤ法による多孔性炭素－セラミック複合薄膜の創製

2014 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 24560926
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 化工物性・移動操作・単位操作
• 研究機関: 広島大学
• 研究代表者: 吉岡 朋久 広島大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (50284162)
• 連携研究者: 金指 正言 広島大学, 大学院工学研究院, 助教 (10467764)
• 研究期間 (年度): 2012-04-01 – 2015-03-31
• キーワード: 対向拡散CVD / カーボン / ガス分離 / シリカ / 有機無機ハイブリッド

研究成果の概要

C3H6，iso-C4H8，およびトルエンを前駆体として，対向拡散CVD法により炭素-SiO2膜を作製した．有機ガスはシリンダ状アルミナ基材の外側から供給され，基材の内側から供給された酸素と基材上中間層の細孔内で反応した．C3H6を用いて400 Cで製膜した場合，200 CにおけるHeの透過率は，3.9x10-7 mol m2 s-1 Pa-1であり，He/N2およびHe/SF6透過率比はそれぞれ27と215であった．一方，iso-C4H8およびトルエンを用いた場合は，He/N2，He/SF6透過率比は74, 343（iso-C4H8）および121, 1620（トルエン）と大きく改善された．

自由記述の分野

化学工学