2013 年度研究成果報告書

ターゲットを均一に利用する無磁場マイクロ波スパッタ製膜

研究課題

研究課題/領域番号	24654189
研究種目	挑戦的萌芽研究
配分区分	補助金
研究分野	プラズマ科学
研究機関	名古屋大学
研究代表者	豊田浩孝名古屋大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (70207653)
研究期間 (年度)	2012-04-01 – 2014-03-31
キーワード	マイクロ波 / スパッタ / 表面波 / 均一プラズマ
研究概要	本研究は、従来のスパッタ法にはない新しいスパッタ装置として、低圧力で均一な無磁場マイクロ波プラズマ生成を利用し、2次元的に面内均一にスパッタ成膜をおこなう装置の実現のための指針を得ることを目的とする。その結果、マイクロ波を用いた低圧力でのプラズマ維持に成功し、さらに高周波電力を重畳印加することにより、10cm四方にわたり誘電体材料の均一なスパッタ成膜に成功した。これは、従来の磁場を用いたスパッタ成膜では実現できない革新的な成果であり、今後さまざまな電子デバイス形成における応用が期待できる。