ターゲットを均一に利用する無磁場マイクロ波スパッタ製膜

2013 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 24654189
• 研究種目: 挑戦的萌芽研究
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: プラズマ科学
• 研究機関: 名古屋大学
• 研究代表者: 豊田 浩孝 名古屋大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (70207653)
• 研究期間 (年度): 2012-04-01 – 2014-03-31
• キーワード: マイクロ波 / スパッタ / 表面波 / 均一プラズマ

研究概要

本研究は、従来のスパッタ法にはない新しいスパッタ装置として、低圧力で均一な無磁場マイクロ波プラズマ生成を利用し、2次元的に面内均一にスパッタ成膜をおこなう装置の実現のための指針を得ることを目的とする。その結果、マイクロ波を用いた低圧力でのプラズマ維持に成功し、さらに高周波電力を重畳印加することにより、10cm四方にわたり誘電体材料の均一なスパッタ成膜に成功した。これは、従来の磁場を用いたスパッタ成膜では実現できない革新的な成果であり、今後さまざまな電子デバイス形成における応用が期待できる。

研究成果

• [雑誌論文] 酸化物ターゲットを用いたRFマグネトロンプラズマにおける高エネルギー粒子の挙動 (2014)
  • 著者名/発表者名: 豊田浩孝
  • 雑誌名: Journal of Vacuum Society of Japan 巻: Vol. 57No.3 ページ: 80-83
• [学会発表] Development of Magnet-Free Uniform Sputtering System by RF and Microwave Power Superposition (2014)
  • 著者名/発表者名: Hagihara, T. Noda and H. Toyoda
  • 学会等名: 8^<th> Int. Conf. on Reactive Plasmas
  • 発表場所: Fukuoka, Japan
  • 年月日: 20140000
• [学会発表] Magnet-Free Sputtering System Using Surface Wave Plasma (2014)
  • 著者名/発表者名: T. Hagihara, T. Noda and H. Toyoda
  • 学会等名: 2014 Int. Sympo. on Plasma and Its Application to Nitride and Nanomaterials
  • 発表場所: Nagoya, Japan
  • 年月日: 20140000
• [学会発表] Development of Magnet-Free Sputtering System for Dielectric Film Deposition (2013)
  • 著者名/発表者名: T. Noda and H. Toyoda
  • 学会等名: 35^<th> Int. Sympo. Dry Process
  • 発表場所: Jeju, Korea
  • 年月日: 20130000
• [学会発表] Development of Magnet-Free Sputtering System for Dielectric Film Deposition with Surface-wave Excited Plasma (2013)
  • 著者名/発表者名: Noda and H. Toyoda
  • 学会等名: 66^<th> Gaseous Electronics Conference
  • 発表場所: Princeton, USA
  • 年月日: 20130000