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2013 年度 実績報告書

半導体コンタクトを用いたグラフェンチャネルトランジスタの電流制御

研究課題

研究課題/領域番号 24656204
研究機関北陸先端科学技術大学院大学

研究代表者

徳光 永輔  北陸先端科学技術大学院大学, グリーンデバイス研究センター, 教授 (10197882)

キーワードグラフェン / SiC / トランジスタ / SiC / 半導体コンタクト
研究概要

グラフェンは高い移動度をもつことから次世代の電子デバイス応用に期待が高まっているが、バンドギャップが0であるため、これをトランジスタのチャネルに用いると両極性動作を示し、ドレイン電流のオン/オフ比が小さいという問題がある。本研究では、半導体コンタクトを用いることにより、グラフェンチャネルトランジスタのオン/オフ比を改善して、論理素子への応用を可能ことを目的としている。平成24年度はソース・ドレインのドーピング濃度を変えてグラフェンチャネルトランジスタを作製し、単極性の電流―電圧特性が得られることを確認した。しかし、オン/オフ比は1桁程度であった。平成25年度は、SiC上に高温アニールで形成したグラフェンに、さらに水素アニールを施すことによって、SiCとグラフェンとの間のバッファ層を除去し、良質な2層グラフェンを形成することに成功した。またゲート絶縁膜となるAl2O3膜を様々な原料を用いて行い、不純物が少なく良好な界面特性が得られる形成条件を検討した。これらの結果を用いてグラフェンチャネルトランジスタを作製し、オンオフ比3桁以上の単極性の電流-電圧特性を得ることに成功した。以上により当初の目的を達成した。

  • 研究成果

    (5件)

すべて 2013

すべて 雑誌論文 (1件) (うち査読あり 1件) 学会発表 (4件) (うち招待講演 1件)

  • [雑誌論文] Unipolar behavior in grapheme-channel field-effect-transistors with n-type doped SiC source/drain regions2013

    • 著者名/発表者名
      Yuichi Nagahisa, Yuichi Harada, and Eisuke Tokumitsu
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Lett.

      巻: vol.103, No.22 ページ: 223503-1-4

    • 査読あり
  • [学会発表] Fabrication of 4H-SiC MOSFETs Using Stacked Al2O3 Gate Insulator with Pre-Annealed Al2O3 Buffer Layer2013

    • 著者名/発表者名
      H.Yamada, S.Hino, N.Miura, M.Imaizumi, S.Yamakawa, and E.Tokumitsu
    • 学会等名
      The International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2013
    • 発表場所
      Phoenix Seagaia Resort, Miyazaki
    • 年月日
      20130929-20131004
  • [学会発表] Electrical characterization of gate modulation in graphene/n-SiC contacts2013

    • 著者名/発表者名
      Yuichi Nagahisa, Eisuke Tokumitsu
    • 学会等名
      5th International conference on Recent Progress in Graphene Research
    • 発表場所
      Tokyo Institute of Technology, Tokyo
    • 年月日
      20130909-20130913
  • [学会発表] Use of low-temperature-deposited high-k gate insulators for SiC power MOSFETs2013

    • 著者名/発表者名
      Eisuke Tokumitsu
    • 学会等名
      Collaborative Conference on 3D & Materials Research (CC3DMR) 2013
    • 発表場所
      Ramada Jeju, Jeju, Korea
    • 年月日
      20130624-20130628
    • 招待講演
  • [学会発表] Observation of High on/off Drain Current Ratio in Graphene Transistors with n-type doped SiC Source/Drain Regions2013

    • 著者名/発表者名
      Y.Nagahisa, Y.Harada, E. Tokumitsu
    • 学会等名
      Graphene Week 2013
    • 発表場所
      City Hall, Chemnitz, Germany
    • 年月日
      20130602-20130607

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公開日: 2015-05-28  

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