溶液中や大気中など水分が存在する環境へのX線照射時に生じる水分子(H2O)の電離現象に起因した反応活性なヒドロキシルラジカルや水素ラジカルなどのラジカル種を利用し,Mg試料表面に非晶質Mg-O皮膜を形成した.その物性および構造解析を通じてX線照射によって生じる試料表面での励起反応機構を解明すると共に,塩水浸漬状態でのMg試料の腐食挙動に及ぼす酸化物皮膜の影響について検討し,X線照射に伴う励起反応を利用した新たな表面改質技術を確立した.また従来の化成処理や陽極酸化皮膜などの表面改質に使用される6価Crやフッ素等有害物質を含まず,人体・環境への負荷はなく,リサイクル性にも優れることを実証した.
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