研究課題
挑戦的萌芽研究
本研究は、溶融塩電解法を用いてニオブ(Nb)基合金に緻密かつ強固な耐酸化性珪化物被膜を付与するために、溶融塩中でのイオンの電気化学挙動を検討し、最適な電解条件を探ることを目標としたものである。その結果、電流密度は低く(10 mA cm-2)、電解温度は高い(1173 K)方が厚い膜が生成することが分かった。溶質(シリコン)濃度は膜厚成長に大きく影響しなかった。最終的に、55~70 micronのNbSi2被膜を形成することに成功した。
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