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X線照射の生物学的影響について、修飾ヌクレオシドの生成とヌクレオチドプールの恒常性破綻という点に着目して研究を行った。X線照射後の修飾ヌクレオシドの生成とその特徴については未解明な点が多い。生体内の除去修復システムを利用した生体防御についての基本的な知見を得るために本研究は重要である。
プリンヌクレオシドであるアデノシン(Ado)、デオキシアデノシン(dAdo)、グアノシン(Guo)、デオキシグアノシン(dGuo)からX線照射によって様々な修飾体が生成した。これらの修飾ヌクレオシドの生成はラジカルスカベンジャー処理群では抑えられるということ、希釈効果についても確認できたことから、水分子から生じたラジカルによって間接的に生成されたということがわかった。修飾ヌクレオシドのひとつである8-oxo-(d)Guoは一旦生成されたあと、さらにX線によって破壊されていた。8-oxo-(d)Adoは化学的処理よりもX線照射によってより多くの量が生成されたことから、X線に特徴的な変化であると考えられる。しかし、RNAやDNA中に存在するヌクレオシドの場合にはフリーの状態であるヌクレオシドに比べて水分子から生じたラジカルによる攻撃がされにくくなり、修飾ヌクレオシドの生成量がヌクレオシド溶液の場合と比較して大幅に減少した。X線照射したヒト神経芽細胞から抽出したヌクレオチドプール中においても8-oxo-dGuo、8-oxo-dAdoなどの修飾ヌクレオシドのX線照射による生成を明らかにすることができた。
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