微小光学素子やバイオセンサの高性能化に、ガラス表面にサブ波長構造体を形成することが有効である。従来は複雑な半導体工程を使用するが、ガラス表面にサブ波長構造体を形成するガラスナノインプリント技術は有力な加工技術である。本研究は、ガラスナノインプリント技術に必要不可欠な金型の作製技術を開発した。はじめに、基板に対するネガ型フォトレジストの密着性を改善した。次に、ネガ型フォトレジストを用いた電子線描画技術によるレジスト原盤作製技術を開発した。更に、金属イオン濃度を調整することにより微小突起を抑制したNi-W合金電鋳技術を開発し、サブ波長サイズの金属パターンを有する金型を試作した。
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