| 研究課題/領域番号 |
24760608
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
材料加工・処理
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| 研究機関 | 独立行政法人産業技術総合研究所 |
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研究代表者 |
篠田 健太郎 独立行政法人産業技術総合研究所, 先進製造プロセス研究部門, 主任研究員 (10442732)
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| 研究協力者 |
中島 智彦 独立行政法人産業技術総合研究所, 先進製造プロセス研究部門, 主任研究員
土屋 哲男 独立行政法人産業技術総合研究所, 先進製造プロセス研究部門, グループ長
波多野 睦子 東京工業大学, 大学院理工学研究科電子物 理工学専攻, 教授
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| 研究期間 (年度) |
2012-04-01 – 2014-03-31
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| キーワード | 塗布光照射法 / ELAMOD / その場計測 / エキシマレーザー / 酸化物薄膜 / プロセスモニタリング / 透明導電膜 / ペロブスカイト酸化物 |
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| 研究概要 |
塗布光照射法では、紫外パルスレーザー照射時の数十ナノ秒程度のごく短時間における表面温度上昇が酸化物薄膜の低温合成に重要な役割を果たしており、その実測による定量化が望まれてきた。そこで、高速応答の近赤外フォトディテクターを用いて、レーザー照射時の試料表面からの放射光を検出する装置を開発し、溶融凝固時のプラトー現象を利用することでナノ秒温度計測が可能であることを見出した。本計測手法の開発により、種々の酸化物薄膜の光結晶成長機構における光熱反応の定量化が可能となった上、本研究はエキシマレーザープロセスのモニタリングツールとしても有用であり、プリンタブルエレクトロニクスへの応用展開も期待できる。
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