研究課題
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微小平板ビーム照射は放射光のような高い指向性を持つX線をビーム幅数十μm、ビーム間隔数百μmのスリットビームを照射する方法であり、1回数百Gyの高線量の照射に対して耐容であることが知られている。スリットビーム照射におけるビーム間隔を変化させ、マウス正常脳の耐容線量を比較し解析した。ビーム間隔100μmスリットビーム照射では半致死線量(LD50)は180Gy、200μm間隔のビームでは500Gy、300μm間隔のビームでは700Gyとなり、ビーム間隔を広げることでより高線量に耐容可能なことが示された。HE染色による組織学的判定ではスリットビームに一致した組織の脱落が確認された。
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Radiation Oncology
巻: 7 ページ: 104