プラズマプロセスによる膜形成の一般則の統合研究

2024 年度 審査結果の所見

• 研究課題/領域番号: 24H00205
• 研究種目: 基盤研究(A)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 中区分14:プラズマ学およびその関連分野
• 研究機関: 九州大学
• 研究代表者: 白谷 正治 九州大学, システム情報科学研究院, 教授 (90206293)
• 研究分担者: 布村 正太 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 上級主任研究員 (50415725) ; 鎌滝 晋礼 九州大学, システム情報科学研究院, 准教授 (60582658) ; 古閑 一憲 九州大学, システム情報科学研究院, 教授 (90315127)
• 研究期間 (年度): 2024-04-01 – 2029-03-31

学術的意義、期待される成果

本研究で取り組む、プラズマ成膜プロセスにおける膜質のプラズマ条件やプラズマの内部パラメタ等に対する定量的な一般則の導出は、これまで経験的に行われたことを体系化し一般則として記述しようとするもので、学術的意義が高い。半導体製造をはじめとした、プラズマプロセスを用いる様々な産業分野に対する波及効果も高いと評価できる。