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2015 年度 実績報告書

Si基板上のCdTe成長層を用いた医療用高性能大面積X線ビデオカメラの開発

研究課題

研究課題/領域番号 25242048
研究機関名古屋工業大学

研究代表者

安田 和人  名古屋工業大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (60182333)

研究分担者 Niraula Madan  名古屋工業大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (20345945)
研究期間 (年度) 2013-04-01 – 2016-03-31
キーワード放射線検出器 / CdTe / エピタキシャル成長 / 電子デバイス
研究実績の概要

有機金属気相成長法によるSi基板上のCdTe単結晶厚膜成長層を用いたアバランシフォトダイオード(APD)によりX線動画観察が可能な超高感度の2次元アレイ型画像検出器を実現することを目的として検討を行っている。
高性能の2次元APDアレイ実現のためには、APDの低暗電流化と、X線検出により発生したキャリアの2次元アレイ面内での増倍率分布の均一化が必要である。
本年度は昨年度に引き続きp+-CdTe/p-CdTe/n+-CdTe/n+-Si構造のAPDアレイの実現を目指して、暗電流低減に必要な低転位のCdTe層成長条件と、アレイのキャリア増倍率分布の均一化に不可欠な成長層膜厚分布と成長層表面モフォロジーの均一化について重点的に検討した。その結果Si基板上でCdTe成長層を低転位化できるSi基板の成長前処理と、CdTe成長層とSi基板の熱膨張係数差による歪み除去を目的として成長初期に実施する熱アニール方法、さらにCdTe厚膜層の成長条件を最適化した。これら前処理や成長後の熱アニールによって成長したCdTe/Si層によりp-CdTe/n+-CdTe/n+-Si構造のダイオードを縦横20x20に2次元配列した検出器アレイを製作した。その検出器アレイの特性を評価した結果、暗電流の大幅な低減と共に、その2次元分布の均一性にも確認できた。その結果これまでは室温では識別不可能であった、241Amの約11keV付近のγ線スペクトルと約30keV付近のCdTeのエスケープピークが識別可能となり、エネルギー分解能の向上が確認できた。さらにCdTe層膜厚分布と表面モフォロジーの均一化も達成した。今後はこれらの成果を基に高性能APDアレイの早期の実現をはかる。

現在までの達成度 (段落)

27年度が最終年度であるため、記入しない。

今後の研究の推進方策

27年度が最終年度であるため、記入しない。

  • 研究成果

    (7件)

すべて 2016 2015 その他

すべて 雑誌論文 (1件) (うち査読あり 1件、 オープンアクセス 1件、 謝辞記載あり 1件) 学会発表 (5件) (うち国際学会 2件) 備考 (1件)

  • [雑誌論文] Surface processing of CdTe detectors using hydrogen bromide-based etching solution2015

    • 著者名/発表者名
      M.Niraula, K.Yasuda, N.Takai, M.Matsumoto, Y.Suzuki, Y.Tsukamoto, Y.Ito, S.Sugimoto, S.Kouno, D.Yamazaki, Y.Agata
    • 雑誌名

      IEEE Electron Device Letters

      巻: 16 ページ: 856-858

    • DOI

      10.1109/LED.2015.2450835

    • 査読あり / オープンアクセス / 謝辞記載あり
  • [学会発表] MOVPE法による(211)及び(100)Si基板上のCdTe成長層のフォトルミネッセンス特性2016

    • 著者名/発表者名
      北川 翔三、神野 悟史、伊藤 祐葵、杉本 宗一郎、山崎 大輔、小島 將弘、坪田眞太郎、、安形 保則、ニラウラ マダン、安田 和人
    • 学会等名
      2016第63回応用物理学会春期学術講演会
    • 発表場所
      東工大(東京)
    • 年月日
      2016-03-22 – 2016-03-22
  • [学会発表] MOVPE法による(211)Si基板上のAsドープCdTe層のフォトルミネッセンス特性2016

    • 著者名/発表者名
      小島 將弘、伊藤 祐葵、神野 悟史、杉本 宗一郎、山崎 大輔、北川 翔三、坪田眞太郎、安田 和人、ニラウラ マダン、安形 保則
    • 学会等名
      2016第63回応用物理学会春期学術講演会
    • 発表場所
      東工大(東京)
    • 年月日
      2016-03-22 – 2016-03-22
  • [学会発表] MOVPE法による(211)CdTe/Si成長層のエッチピット評価2016

    • 著者名/発表者名
      坪田眞太郎、杉本 宗一郎、伊藤 祐葵、山崎 大輔、神野 悟史、小島 將弘、北川 翔三、、安田 和人、ニラウラ マダン、安形 保則
    • 学会等名
      2016第63回応用物理学会春期学術講演会
    • 発表場所
      東工大(東京)
    • 年月日
      2016-03-22 – 2016-03-22
  • [学会発表] Chracterization of large-area spectroscopic imaging array fabricated using epitaxially grown thick single crystal CdTe layers on Si substrates2015

    • 著者名/発表者名
      M.Niraula, K.Yasuda, S.Kouno, S.Sugimoto, Y,Ito, D.Yamazaki, K.Kojima, S.Kitagawa, Y.Agata
    • 学会等名
      IEEE 2015 22nd International Workshop on Room-Temperature
    • 発表場所
      San Diego (USA)
    • 年月日
      2015-11-02 – 2015-11-06
    • 国際学会
  • [学会発表] Study of CdTe surface processed with hydrogen bromide based etching solution2015

    • 著者名/発表者名
      M.Niraula, K.Yasuda, Y,Ito, D.Yamazaki, S.Sugimoto, S.Kouno, S.Kitagawa, K.Kojima, Y.Agata
    • 学会等名
      IEEE 2015 22nd International Workshop on Room-Temperature Semiconductor X-ray and Gamma Ray Detectors
    • 発表場所
      San Diego (USA)
    • 年月日
      2015-11-02 – 2015-11-06
    • 国際学会
  • [備考] 名古屋工業大学安田研究室

    • URL

      http://yasuda.web.nitech.ac.jp/

URL: 

公開日: 2017-01-06  

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