| 研究課題/領域番号 |
25246036
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| 研究種目 |
基盤研究(A)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
量子ビーム科学
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| 研究機関 | 大阪大学 |
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研究代表者 |
古澤 孝弘 大阪大学, 産業科学研究所, 教授 (20251374)
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| 研究分担者 |
山本 洋揮 大阪大学, 産業科学研究所, 助教 (00516958)
小林 一雄 大阪大学, 産業科学研究所, 助教 (30116032)
室屋 裕佐 大阪大学, 産業科学研究所, 准教授 (40334320)
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| 研究期間 (年度) |
2013-04-01 – 2018-03-31
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| キーワード | 放射線、X線、粒子線 / 半導体超微細化 / シミュレーション工学 / 計算物理 |
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| 研究成果の概要 |
半導体製造用リソグラフィでは、電離放射線による11nm 以下の大量生産の実現に向け開発が進められている。レジストには、感度とともに、現像後のパターン側壁のラフネスを1nm 以下に抑えることが要求される。本研究では①化学反応の時間分解計測からの化学種空間分布の時間変化抽出、②化学反応後の空間分解計測からの化学種空間分布の時間変化抽出、③化学反応のスパーオーバラップ計測（空間と時間の重なりの解析）、④シミュレーションコードの作製と解析の4つの手法により、ナノスケールの空間領域に誘起される化学反応の解析を行い、11nm 以下の解像度による半導体大量生産を実現するための材料設計指針を得た。
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| 自由記述の分野 |
応用ビーム工学
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