| 研究課題/領域番号 |
25249052
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| 研究種目 |
基盤研究(A)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
電子デバイス・電子機器
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| 研究機関 | 大阪府立大学 |
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研究代表者 |
安田 雅昭 大阪府立大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (30264807)
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| 研究分担者 |
小寺 正敏 大阪工業大学, 工学部, 教授 (40170279)
多田 和広 富山高等専門学校, 電気制御システム工学科, 准教授 (90579731)
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| 研究期間 (年度) |
2013-05-31 – 2016-03-31
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| キーワード | 電子ビーム / ナノプロセス / マルチフィジックス / 分子動力学 / モンテカルロ法 / 計算物理 |
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| 研究成果の概要 |
モンテカルロ法と分子動力学法を融合した理論解析手法を用いて、電子ビームによるナノプロセスを対象としたマルチフィジックスシミュレーションを実施した。電子ビーム加工、改質、リソグラフィなどの応用技術を対象に電子ビームが誘起する構造変化、応力発生、損傷、昇温、帯電などの多様な物理現象の複合解析を行い、電子ビーム照射下の各物理現象の相関と加工・改質プロセスへの寄与について分子レベルで解明した。
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| 自由記述の分野 |
電子ビーム応用
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