| 研究課題/領域番号 |
25280013
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| 研究機関 | 東京工業大学 |
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研究代表者 |
高橋 篤司 東京工業大学, 理工学研究科, 教授 (30236260)
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| 研究分担者 |
小平 行秀 会津大学, コンピュータ理工学部, 准教授 (00549298)
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| 研究期間 (年度) |
2013-04-01 – 2016-03-31
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| キーワード | 計算機システム / 設計技術 / 設計工学 / 製造容易化 / リソグラフィ |
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| 研究実績の概要 |
本研究は，ウエハ上に微細な回路パタンを実現する次世代のリソグラフィ技術に着目し，特に次世代リソグラフィ技術として有望な2回露光技術，側壁プロセス技術に対する製造と設計の双方に親和性の高い物理設計技術を開発することで，次世代リソグラフィ技術のための実用的な設計フローを構築することを目的とする．本年度の研究により以下のような成果が得られた．
2回露光を含む複数回露光のための設計技術として，半正定値計画法を用いたパターン分割手法，および，2回露光の後にカット工程を導入する場合のパターン分割手法を提案し，その性能検証を行い，従来手法よりも高速に良好な分割が得られることを確認した．
側壁プロセス技術のための設計技術開発として，側壁プロセスに適合した配線を2色グリッドを用いて生成する手法を，多様な入力に対応するとともにより信頼性が高い配線を生成するよう改良を加え，実験により効果を確認した．また，側壁プロセスを2回施すSAQPの配線設計において，3色グリッドを用いて配線を生成する手法が提案されているが，折れ曲がり制約を考慮する必要があり，従来の最短路アルゴリズムでは対応できない場合があることを確認し，折れ曲がり制約に対応した最短路アルゴリズムの研究開発が必要であることを明らかにした．
マスク最適化技術開発としては，リソグラフィシミュレーションにおいて，光強度分布を効率よく見積もる手法を開発し，マスク設計時間の短縮を実現した．今後，高速性を維持したまま，見積もり精度を向上させるための技術開発などが求められる．
また，EUVや自己組織化技術など他の次世代リソグラフィ技術の調査を行い，セルベース設計導入の効果について検討した．
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| 現在までの達成度 (区分) |
現在までの達成度 (区分)
1: 当初の計画以上に進展している
理由
研究計画に記載のとおり，平成26年度に予定していた，半正定値計画法を用いたパターン分割手法，側壁プロセスのための配線手法，マスク最適化手法を開発しその効果を確認できた．また，側壁プロセスを2回施すSAQPの配線設計において，想定外の技術課題を発見するなど，計画以上に進展している．
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| 今後の研究の推進方策 |
国際会議等での研究発表や情報交換，企業との情報交換を通じて，研究の取りまとめにとどまらず，今後の研究開発の方向性の妥当性の検証を常に行うことで，効率的に研究を推進する予定である．
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| 次年度使用額が生じた理由 |
前年度の想定より，研究成果の発表予定が増加したため前倒し支払い請求を行ったが，旅費が予想より若干抑えられたため，次年度使用額が生じた．
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| 次年度使用額の使用計画 |
次年度も国際会議での発表を予定しており，次年度分と合わせて旅費の一部として用いる．
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