光酸発生培養基材への精密光照射による接着細胞の物理プロセシング

研究成果発表報告書

• 研究課題/領域番号: 25282148
• 研究種目: 基盤研究(B)
• 配分区分: 一部基金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 生体医工学・生体材料学
• 研究機関: 国立研究開発法人産業技術総合研究所
• 研究代表者: 須丸 公雄 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 創薬基盤研究部門, 上級主任研究員 (40344436)
• 研究分担者: 高木 俊之 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 創薬基盤研究部門, 主任研究員 (10248065) ; 金森 敏幸 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 創薬基盤研究部門, 研究グループ長 (50356797)
• 研究期間 (年度): 2013-04-01 – 2016-03-31

研究成果

• [産業財産権] 高分子化合物およびこれを用いた細胞操作方法 (2020)
  • 発明者名: 須丸 公雄, 高木 俊之, 金森 敏幸, 森下 加奈
  • 権利者名: 産業技術総合研究所
  • 産業財産権種類: 特許
  • 産業財産権番号: 17810399
  • 外国
• [産業財産権] POLYMER COMPOUND AND METHOD FOR MANIPULATING CELL USING SAME (2020)
  • 発明者名: 須丸 公雄, 高木 俊之, 金森 敏幸, 森下 加奈
  • 権利者名: 産業技術総合研究所
  • 産業財産権種類: 特許
  • 産業財産権番号: 17810399
  • 外国
• [産業財産権] POLYMERVERBINDUNG UND VERFAHREN ZUR ZELLMANIPULATION DAMIT (2020)
  • 発明者名: 須丸 公雄, 高木 俊之, 金森 敏幸, 森下 加奈
  • 権利者名: 産業技術総合研究所
  • 産業財産権種類: 特許
  • 産業財産権番号: 17810399
  • 外国
• [産業財産権] 高分子化合物およびこれを用いた細胞操作方法 (2018)
  • 発明者名: 須丸 公雄, 高木 俊之, 金森 敏幸, 森下 加奈
  • 権利者名: 産業技術総合研究所
  • 産業財産権種類: 特許
  • 産業財産権番号: 17810399
  • 外国
• [産業財産権] POLYMER COMPOUND AND METHOD FOR MANIPULATING CELL USING SAME (2018)
  • 発明者名: 須丸 公雄, 高木 俊之, 金森 敏幸, 森下 加奈
  • 権利者名: 産業技術総合研究所
  • 産業財産権種類: 特許
  • 産業財産権番号: 17810399
  • 外国
• [産業財産権] POLYMERVERBINDUNG UND VERFAHREN ZUR ZELLMANIPULATION DAMIT (2018)
  • 発明者名: 須丸 公雄, 高木 俊之, 金森 敏幸, 森下 加奈
  • 権利者名: 産業技術総合研究所
  • 産業財産権種類: 特許
  • 産業財産権番号: 17810399
  • 外国
• [産業財産権] 高分子化合物およびこれを用いた細胞操作方法 (2017)
  • 発明者名: 須丸 公雄, 高木 俊之, 金森 俊幸, 森下 加奈
  • 権利者名: 産業技術総合研究所
  • 産業財産権種類: 特許
  • 産業財産権番号: PCT/JP2017/021332
  • 出願年月日: 2017-06-08
  • 外国
• [産業財産権] 高分子化合物およびこれを用いた細胞操作方法 (2016)
  • 発明者名: 須丸 公雄, 高木 俊之, 金森 敏幸, 森下 加奈
  • 権利者名: 産業技術総合研究所
  • 産業財産権種類: 特許
  • 産業財産権番号: 特願2016-114432
  • 出願年月日: 2016-06-08