| 研究課題/領域番号 |
25286061
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 一部基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
薄膜・表面界面物性
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| 研究機関 | 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構 |
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研究代表者 |
朝岡 秀人 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構, 原子力科学研究部門 先端基礎研究センター, 研究主席 (40370340)
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| 研究分担者 |
山田 洋一 筑波大学, 数理物質科学研究科(系), 講師 (20435598)
田口 富嗣 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構, 原子力科学研究部門 量子ビーム応用研究センター, 研究主幹 (50354832)
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| 研究期間 (年度) |
2013-04-01 – 2017-03-31
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| キーワード | 結晶成長 / 表面・界面物性 / MBE・エピタキシャル / 自己組織化 |
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| 研究成果の概要 |
表面ストレスは成長原子の拡散・吸着過程を決定することから、表面ストレスの解明・制御がナノ構造創製のために有力な手段となる。我々はサーファクタントを利用したヘテロ成長過程におけるストレス変化や、表面再構成構造に内在するストレスを実験的に捉えるため、電子線回折と基板たわみ同時計測法を開発し、表面構造に対応するストレスを定量的に評価した。さらには基板ホルダーにストレスを印加する機構を付加し、ストレス印加によるナノ構造創成を可能とした。
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| 自由記述の分野 |
結晶成長
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