研究課題
基盤研究(B)
部分回転楕円面集光ミラー型光学素子のための作製基盤技術である「高精度表面加工法」と「高精度表面形状計測法」を構築することで,従来作製できなかった1nm形状精度の高精度部分回転楕円面集光ミラーの開発に成功した.7keVのX線において85nm×125nm(半値幅)の2次元ナノ集光ビームを部分回転楕円面ミラーにより世界に先駆けて達成した.本ミラーとX線自由電子レーザーを組み合わせることで10の20乗(W/cm2)の超高フォトン密度集光ビームの形成が期待できる.
X線光学