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2015 年度 研究成果報告書

時間分解コヒーレントフォノン制御を用いた表面原子のインプロセスナノ加工・計測

研究課題

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研究課題/領域番号 25289017
研究種目

基盤研究(B)

配分区分一部基金
応募区分一般
研究分野 生産工学・加工学
研究機関九州大学 (2014-2015)
大阪大学 (2013)

研究代表者

林 照剛  九州大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (00334011)

研究分担者 高谷 裕浩  大阪大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (70243178)
道畑 正岐  大阪大学, 工学(系)研究科(研究院), 助教 (70588855)
研究期間 (年度) 2013-04-01 – 2016-03-31
キーワードフェムト秒レーザー / 表面励起加工 / コヒーレントフォノン / コヒーレント励起 / インコヒーレント励起 / アブレーション / パルストレイン / ダブルパルス
研究成果の概要

本研究では,時間的に近接させた2つのフェムト秒パルスビーム(ダブルパルスビーム)を照射した時に,第1のパルス照射後に,ターゲット表面に生じるインコヒーレントなプラズマ励起,格子系のコヒーレント振動励起などの瞬間的な励起現象を低照度レーザー加工に応用することを検討している.本課題では,フェムト秒レーザー照射直後から100ps程度の時間が経過するまでの過渡的なプラズマ励起および格子系の励起現象,また,励起表面の加工中に生じるターゲット表面の形態変化について,時間分解観察を行い,低照度ダブルパルスビームによるレーザー加工現象の基礎過程を調べる.

自由記述の分野

光加工,計測

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公開日: 2017-05-10  

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