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2015 年度 実績報告書

高感度且つ低LWRを有する1Xnm級EUVレジストの開発

研究課題

研究課題/領域番号 25289106
研究機関兵庫県立大学

研究代表者

渡邊 健夫  兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 教授 (70285336)

研究分担者 原田 哲男  兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 助教 (30451636)
研究期間 (年度) 2013-04-01 – 2016-03-31
キーワード極端紫外線リソグラフィ / EUVレジスト / 非化学増幅系レジスト / 化学増幅系レジスト / 金属レジスト / 解像度 / 感度 / LWR
研究実績の概要

EUVレジスト開発では、高解像度、高感度、低LWR(line edge rougghness)、低アウトガスを同時に満足する必要があり、本研究では特に高解像、高感度、低LWRを目指して研究を進めてきた。
従来はニュースバル放射光施設のビームラインBL7Bの軟X線吸収分光ビームラインで化学増幅系レジストの反応解析を進めていたが、感光性材料である酸発生剤のアニオン部に含まれるフッ素の1sの吸収信号が弱く、このため十分な解析ができていないことが分かった。そこで、平成26年度にフッ素の1sの吸収が測定が可能になるように、ニュースバル放射光施設の汎用ビームラインBL10に軟X線用吸収分光系を整備した。その結果、平成27年度からはこの系を用いてフッ素1sの吸収が精度よく測定できるようになり、各種化学増幅系レジストおよび非化学増幅系レジストの反応解析を進めた。この結果、この測定系により、反応が分かっている非化学増幅系レジストの反応解析が十分にできることを明らかにした。さらに、化学増幅系EUVレジストの露光感度の向上では、EUV光による従来のイオン化反応に加えて、EUV光による酸発生剤のアニオン部の直接な分解反応が感度向上に有効であることを確認することができた。現在、EUV光による感度向上には金属レジストが有効であることが分かり、これらの反応が未だに解明されていないため、今後はこの測定系により反応解析を進め、EUVレジストのさらなる感度向上を目指す。
低LWRを実現するには、EUV光による均一に反応することが重要であり、このため酸発生剤やベースレジンの官能基等の均一な分布が要求される。そこで、光電子分光による元素分布分析の可能性の探索を進めた。
解像度向上には、解像度評価をするためにニュースバル放射光施設のビームラインBL9Bの干渉露光装置の高度化を進めた。

現在までの達成度 (段落)

27年度が最終年度であるため、記入しない。

今後の研究の推進方策

27年度が最終年度であるため、記入しない。

次年度使用額が生じた理由

27年度が最終年度であるため、記入しない。

次年度使用額の使用計画

27年度が最終年度であるため、記入しない。

  • 研究成果

    (16件)

すべて 2016 2015

すべて 雑誌論文 (2件) (うち査読あり 2件、 オープンアクセス 2件、 謝辞記載あり 2件) 学会発表 (13件) (うち国際学会 4件、 招待講演 5件) 図書 (1件)

  • [雑誌論文] Development of Transmission Grating for EUV Interference Lithography of 1X nm HP2015

    • 著者名/発表者名
      Tsubasa Fukui, Hirohito Tanino, Yuki Fukuda, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita and Tetsuo Harada
    • 雑誌名

      J. Photopolym. Sci. Technol.

      巻: 28 ページ: 525, 529

    • 査読あり / オープンアクセス / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Development of High=Reflective W/Si-multilayer Diffraction Grating for the Analysis of Fluorine Materials2015

    • 著者名/発表者名
      Makaski Kuki, Tomoyuki Uemura, Masato Yamaguchi, Testuo Harada, Takeo Watanabe, Yasuji Muramatsu and Hiroo Kinoshita
    • 雑誌名

      J. Photopolym. Sci. Technol.

      巻: 28 ページ: 530, 536

    • 査読あり / オープンアクセス / 謝辞記載あり
  • [学会発表] 微細加工用レジストの基本知識と活用法2016

    • 著者名/発表者名
      渡邊健夫
    • 学会等名
      情報機構セミナー
    • 発表場所
      大田区産業プラザ(東京都大田区南蒲田)
    • 年月日
      2016-10-19 – 2016-10-19
    • 招待講演
  • [学会発表] 兵庫県立大学におけるEUVレジスト評価系の開発2016

    • 著者名/発表者名
      渡邊健夫
    • 学会等名
      第25回光反応・電子用材料研究会講座
    • 発表場所
      東京理科大学森戸記念館(東京都新宿区)
    • 年月日
      2016-01-20 – 2016-01-20
    • 招待講演
  • [学会発表] 軟X線吸収分光法を用いたEUV用PHS系化学増幅系レジストの反応解析2015

    • 著者名/発表者名
      山口都太、石井暁大、渡邊健夫、九鬼正樹、原田哲男
    • 学会等名
      第1回放射光産業利用支援講座
    • 発表場所
      姫路駅前じばさんびる(兵庫県姫路市)
    • 年月日
      2015-10-16 – 2015-10-16
  • [学会発表] Fabrication of transmission grating of EUV interference lithography for 1X nm hp EUV resist evaluation2015

    • 著者名/発表者名
      Takeo Watanabe
    • 学会等名
      EUV International Sympoisum 2015
    • 発表場所
      Maastricht, Netherland
    • 年月日
      2015-10-06 – 2015-10-08
    • 国際学会
  • [学会発表] Soft X-ray Absorption Spectroscopy using SR for EUV Resist Chemical Reaction Analysis2015

    • 著者名/発表者名
      Takeo Watanabe
    • 学会等名
      TWG EUV Ressit Workshop
    • 発表場所
      Maastricht, Netherland
    • 年月日
      2015-10-04 – 2015-10-04
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] ニュースバルに於けるEUVレジスト用評価系の開発2015

    • 著者名/発表者名
      渡邊健夫
    • 学会等名
      第60回UV/EB研究会
    • 発表場所
      大阪住友クラブ(大阪府大阪市西区)
    • 年月日
      2015-09-18 – 2015-09-18
    • 招待講演
  • [学会発表] 12.5 nm HPレジスト評価用EUV二光束干渉露光系の透過型回折格子の製作2015

    • 著者名/発表者名
      福田 裕貴, 福井 翼、谷野 寛仁, 原田 哲男, 渡邊 健夫
    • 学会等名
      第76回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      名古屋国際会議場(愛知県名古屋市熱田区)
    • 年月日
      2015-09-13 – 2015-09-16
  • [学会発表] 「計算」と「光」を融合した理論的分子設計が実現する近未来ものづくりプロセス、我が国の未来を拓く地域の実現に関する調査研究2015

    • 著者名/発表者名
      畑 豊、渡邊健夫、横山和司、鶴田 宏
    • 学会等名
      第12回SPring-8産業利用報告会
    • 発表場所
      川崎市産業振興会館(神奈川県川崎市)
    • 年月日
      2015-09-03 – 2015-09-04
  • [学会発表] 軟X線吸収分光法を用いたEUV用PHS系化学増幅系レジストの反応解析2015

    • 著者名/発表者名
      渡邊健夫
    • 学会等名
      第12回SPring-8産業利用報告会
    • 発表場所
      川崎市産業振興会館(神奈川県川崎市)
    • 年月日
      2015-09-03 – 2015-09-04
  • [学会発表] 微細加工用レジスト2015

    • 著者名/発表者名
      渡邊健夫
    • 学会等名
      フォトポリマー講習会
    • 発表場所
      東京理科大学森戸記念館(東京都新宿区)
    • 年月日
      2015-08-19 – 2015-08-20
    • 招待講演
  • [学会発表] 1X nm HPレジスト評価用EUV二光束干渉露光系の透過型回折格子の製作2015

    • 著者名/発表者名
      福田裕貴、福井 翼、谷野寛仁、九鬼真輝、渡邊健夫、木下博雄、原田哲男
    • 学会等名
      NGLワークショップ2015
    • 発表場所
      東京工業大学蔵前館(東京都目黒区)
    • 年月日
      2015-07-06 – 2015-07-07
  • [学会発表] Development of Transmission Grating for EUV Interference Lithography of 1X nm HP2015

    • 著者名/発表者名
      Tsubasa Fukui, Hirohito Tanino, Yuki Fukuda, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita and Tetsuo Harada
    • 学会等名
      The 32nd International Conference of Photopolymer Science and Technology
    • 発表場所
      幕張メッセ(千葉県千葉市美浜区)
    • 年月日
      2015-06-24 – 2015-06-26
    • 国際学会
  • [学会発表] Development of High=Reflective W/Si-multilayer Diffraction Grating for the Analysis of Fluorine Materials2015

    • 著者名/発表者名
      Makaski Kuki, Tomoyuki Uemura, Masato Yamaguchi, Testuo Harada, Takeo Watanabe, Yasuji Muramatsu and Hiroo Kinoshita
    • 学会等名
      The 32nd International Conference of Photopolymer Science and Technology
    • 発表場所
      幕張メッセ(千葉県千葉市美浜区)
    • 年月日
      2015-06-24 – 2015-06-26
    • 国際学会
  • [図書] フォトポリマー懇話会、ニュースレター2015

    • 著者名/発表者名
      渡邊健夫、共著
    • 総ページ数
      8
    • 出版者
      フォトポリマー懇話会

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公開日: 2017-01-06  

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