高輝度コヒーレント軟Ｘ線による新しい超微細レーザー加工技術の確立

2015 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 25289244
• 研究種目: 基盤研究(B)
• 配分区分: 一部基金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 複合材料・表界面工学
• 研究機関: 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構
• 研究代表者: 河内 哲哉 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構, 原子力科学研究部門 量子ビーム応用研究センター, 室長代理 (40343941)
• 研究分担者: 石野 雅彦 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構, 原子力科学研究部門量子ビーム応用研究センター, 研究副主幹 (80360410) ; ピクズ タチアナ 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 原子力科学研究部門量子ビーム応用研究センター, リサーチフェロー (20619978) ; 長谷川 登 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構, 原子力科学研究部門量子ビーム応用研究センター, 研究職 (50360409) ; 錦野 将元 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構, 原子力科学研究部門量子ビーム応用研究センター, 研究副主幹 (70370450)
• 研究期間 (年度): 2013-04-01 – 2016-03-31
• キーワード: 材料加工 / 量子ビーム / 高性能レーザー / 高輝度Ｘ線

研究成果の概要

近年、高輝度軟Ｘ線パルスを物質に照射した際の物質のアブレーションしきい値が光学レーザーに比べて極端に低くなることや、低照射強度領域で試料表面に均一なナノ構造が形成されることなど、従来のレーザー加工の枠を打ち破る可能性を持つ全く新しい現象が発見されている。しかし、これらの現象の根幹となる軟Ｘ線と物質の間の詳細な物理プロセスはまだ解明されていない。本研究では、これまでの我々の研究を更に進め、高輝度軟Ｘ線と物質の相互作用を定性的に明らかにすることで材料表面のナノ構造形成プロセスを解明する。

自由記述の分野

高強度レーザー