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本研究ではインテグレーテッドパルスレーザー堆積法を提案し，それを用いて深紫外発光素子の創製を試みる．PLD法による深紫外発光素子作製のためには，粗大粒子の排除と高エネルギー励起種の発生ならびに異種原子ドープが必要不可欠である．本研究では，冷凍ボラジンターゲットと数mJの高強度フェムト秒パルスレーザー光を用いることで，高品質立方晶窒化硼素（c-BN）薄膜を作製し，薄膜への異種原子ドープも試みる．すなわち，化合物薄膜の作製手法としては既に一般となっているPLD法に，冷凍ターゲットと高強度フェムト秒パルスならびにダブルレーザーアブレーション法を組み合わせることで深紫外発光素子の実現を図る．
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