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2014 年度 実績報告書

3次元実装用低ひずみ・高アスペクト比TSV開発

研究課題

研究課題/領域番号 25289258
研究機関茨城大学

研究代表者

大貫 仁  茨城大学, 工学部, 特任教授 (70315612)

研究分担者 稲見 隆  茨城大学, 工学部, 准教授 (20091853)
近藤 和夫  大阪府立大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (50250478)
永野 隆敏  茨城大学, 工学部, 講師 (70343621)
篠嶋 妥  茨城大学, 工学部, 教授 (80187137)
研究期間 (年度) 2013-04-01 – 2016-03-31
キーワードCuめっき / 3次元実装 / Cu-TSV / 抵抗率 / 低歪
研究実績の概要

・Cu-TSVの微細化に伴い、溝のアスペクト比(溝深さ/溝幅)が増大する。このため、Cuめっき時に添加剤などを多量に導入してTSVを作製しているので抵抗率がかなり増大する可能性がある。そこで測定用TEGを作製し、アスペクト比8のCu-TSVの抵抗率を測定し約6μΩ・cmの値を得た。この値はCuの抵抗率2μΩ・cmに比べ3倍高い。今後、TEG構造の最適化を図り、抵抗率のめっき速度、アスペクト比依存性を明確にしていく。
・Cu-TSVの加熱による突き出し(Pop-Up)もシステムLSIの信頼性を劣化させる。そこで、Cu-TSVをSEM中に設置し、温度を室温から500℃まで変化させてPop-Upをその場観察した結果、Pop-Upの高さは加熱温度が高くなるにつれて増大し、1μm以上になった。また、高さは冷却により減少するが、室温においても500℃におけるPop-Upの高さは一部保持されることが分かった。今後、Pop-Up高さの加熱冷却による定量値をアスペクト比の関数として明確にする。
・Cu-TSVの加熱冷却に伴う、Pop-Up高さの変化のシミュレーションを行い、実測値に近い値を再現できた。さらに、Cu-TSVの周囲のSi基板に与える応力歪のシミュレーションも行い、歪も加熱温度とともに増大し、信頼性を損ねる可能性があることを示唆する結果を得た。今後、Siの低歪化の検討のための指導原理(バリアメタルの材質・厚さ)をシミュレーションで得て、実験で確認して行く。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

2: おおむね順調に進展している

理由

抵抗率を測定できるTEGの製作が可能になり、実際に抵抗率を測定できたこと。また、Cu-TSVの信頼性を左右する加熱による突き出し(Pop-Up)をその場観察できる技術を確立し、観察して加熱による高さと冷却後の高さには違いがあることを明らかにしたこと。さらに、Cu-TSVの加熱・冷却に伴う変形挙動および周囲のSi基板に与える応力歪のシミュレーションが可能になり、これを用いてSiの低歪化およびCuの低変形化の指導原理を得て当初の目的を達成できる見通しが得られつつあること。

今後の研究の推進方策

1.Cu-TSV形成めっき条件と抵抗率との関係
2.Cu-TSVの加熱・冷却に伴う変形挙動(Pop-Up高さ・粒径等)のアスペクト比およびめっ き条件の影響
3.シミュレーションによるCu-TSVの変形挙動およびSiに与える応力歪のバリアメタルの材質・構造依存性
4.Cu-TSVの低抵抗率化およびSiの低歪化の明確化

次年度使用額が生じた理由

H26年度は物品が予定より安価に購入できたりして計上した予算を全部使用しなくとも研究が進捗したため。

次年度使用額の使用計画

H27年度に抵抗率の測定、Cu-TSVの変形共同およびSiに与える応力歪の解析等に使用する。

  • 研究成果

    (4件)

すべて 2015 2014

すべて 雑誌論文 (2件) (うち査読あり 2件、 謝辞記載あり 1件、 オープンアクセス 1件) 学会発表 (1件) (うち招待講演 1件) 産業財産権 (1件)

  • [雑誌論文] Effectiveness of a periodic annealing method to coarsen Cu grains in very narrow trenches2015

    • 著者名/発表者名
      Yasushi Sasajima, Tatsuya Miyamoto, Takatoshi Saitoh, Takahiro Yokoyama and Jin Onuki
    • 雑誌名

      Microelectronic Engineering

      巻: 131 ページ: 43-50

    • DOI

      http://dx.doi.org/10.1016/j.mee.2014.10.006

    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Five-Minute TSV Copper Electrodeposition2014

    • 著者名/発表者名
      Kazuo Kondo, Chikara Funahashi,Yuko Miyake
    • 雑誌名

      Journal of The Electrochemical Society

      巻: 161 ページ: D791-D793

    • DOI

      :10.1149/2.0751414jes

    • 査読あり / オープンアクセス
  • [学会発表] 高純度微小銅めっきと抵抗減少機構2014

    • 著者名/発表者名
      ⑤大貫 仁
    • 学会等名
      化学工学会
    • 発表場所
      九州大学
    • 年月日
      2014-09-17 – 2014-09-18
    • 招待講演
  • [産業財産権] 超低抵抗率銅配線を有する半導体集積回路装置2015

    • 発明者名
      篠嶋 妥、 大貫 仁、永野隆敏
    • 権利者名
      篠嶋 妥、 大貫 仁、永野隆敏
    • 産業財産権種類
      特許
    • 産業財産権番号
      特願2015-038589
    • 出願年月日
      2015-02-27

URL: 

公開日: 2016-06-01  

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