| 研究課題/領域番号 |
25289264
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 一部基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
材料加工・組織制御工学
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| 研究機関 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
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研究代表者 |
鈴木 達 国立研究開発法人物質・材料研究機構, 機能性材料研究拠点, グループリーダー (50267407)
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| 研究分担者 |
垣澤 英樹 国立研究開発法人物質・材料研究機構, 構造材料研究拠点, 主幹研究員 (30354137)
鈴木 義和 筑波大学, 数理物質系, 准教授 (40357281)
松田 元秀 熊本大学, 大学院先端科学研究部(工), 教授 (80222305)
打越 哲郎 国立研究開発法人物質・材料研究機構, 機能性材料研究拠点, グループリーダー (90354216)
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| 研究期間 (年度) |
2013-04-01 – 2018-03-31
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| キーワード | 結晶配向 / 強磁場 / セラミックス / 微構造制御 / 焼結 |
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| 研究成果の概要 |
セラミックスにおいて、結晶方位制御は特性向上に有効であり、その手法を精緻化することは重要となる。形状異方性粒子と強磁場配向制御を組み合わせたプロセスにおいて、棒状粒子の場合でもテープキャストを強磁場中で行うことにより３軸配向に成功した。また、AlNにおいては、熱処理での粒界相除去により透光性と熱伝導度への特性向上に成功し、配向の効果も確かめた。配向SiCでは、c面内での電気伝導がc軸方向よりも高く、熱伝導の異方性と同様の傾向を示すことを明らかにした。さらに、アルミナにおいて熱間静水圧プレスを用いずに透明化を達成し、配向の効果が各結晶での屈折率差の減少にあることを明らかにした。
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| 自由記述の分野 |
粉体プロセス
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