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本研究は，自然界の代表的な鉱物である石英の表面が水と反応してできる水和層の厚さから，断層の最新活動時期を推定するための試みである。断層活動が石英の水和層厚さに及ぼす影響を調べるため，二次イオン質量分析装置（SIMS）による水素イオンの分析から水和層の厚さを推定する手法を適用した。
チャートおよび花崗岩中の石英を用いた分析では，断層活動により鏡面状に磨かれて平滑になった断層面上の石英は，断層活動を伴わない自然の岩石表面と比べて試料表面付近の水素イオン濃度の大幅な増加が認められ，断層中の石英の水和層厚さの推定にSIMSが適用できる見通しが得られた。
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