|
三酸化モリブデン（MoO3）は抵抗可変型メモリー、エレクトロクロミックディスプレイ、マイクロバッテリーなどの応用に期待されている材料である。これまで、アモルファスや多結晶のMoO3薄膜の成長と評価が精力的に行われているが、単結晶薄膜の成長に関する報告はほとんど無い。我々は、分子線エピタキシー法でサファイアやLSAT基板上にMoO3薄膜を成膜したところ、高品質なorthorhombic構造のMoO3薄膜をエピタキシャル成長させることに成功した（詳細は次頁を参考にしていただきたい）。本研究成果は、MoO3薄膜を次世代の機能性デバイスへ応用する上で有用な知見を与えるものである。
|
